一种去除CVD反应腔体内壁沉积膜的装置的制作方法

一种去除cvd反应腔体内壁沉积膜的装置
技术领域
1.本实用新型涉及气相沉积技术领域，具体为一种去除cvd反应腔体内壁沉积膜的装置。

背景技术：

2.化学气相沉积(cvd)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法，是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术，包括大范围的绝缘材料，大多数金属材料和金属合金材料。
3.在进行气相沉积的时候，反应室的内壁上会残留些许沉积物，传统的清理方式主要是向反应室内部输送洁净气体，通过气体的吹动作用将反应室进行清洁，这种方式针对附着牢固的沉积物无法清理，容易使内壁上形成残留，长期以往会使反应室的加热效果变差，影响反应进行。
4.基于此，本实用新型设计了一种去除cvd反应腔体内壁沉积膜的装置，以解决上述问题。

技术实现要素：

5.本实用新型的目的在于提供一种去除cvd反应腔体内壁沉积膜的装置，以解决上述背景技术中提出的问题。
6.为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种去除cvd反应腔体内壁沉积膜的装置，包括底座，所述底座的顶部焊接有竖梁，所述竖梁的内壁转动连接有螺纹杆，所述底座内腔的顶部固定安装有第一电机，所述第一电机的输出轴与螺纹杆的底部固定安装，所述螺纹杆的表面螺纹连接有套筒，所述套筒的左侧焊接有横梁；
7.所述横梁内腔的左侧固定安装有第二电机，所述第二电机的输出轴固定安装有主动轮，所述主动轮的表面绕设有皮带，所述主动轮通过皮带传动连接有从动轮，所述从动轮的内壁固定安装有转管，所述转管的底部贯穿到横梁的外部，所述转管的底部连通有吸尘罩，所述转管的两侧均固定安装有套管，所述套管的内壁滑动连接有支杆，所述支杆的一端固定安装有刮板；
8.所述横梁的底部连通有软管，所述软管的另一端与底座的顶部连通，所述底座内腔底部的右侧固定安装有抽气机，所述抽气机的排气端贯穿到底座的外部，所述底座的正面插入有收集盒。
9.优选的，所述收集盒位于软管的正下方，所述收集盒的右侧开设有气口，且气口的内壁固定安装有挡网。
10.优选的，所述抽气机的排气端连通有输送管，所述输送管的另一端连通有分流管，所述分流管底部的两侧均连通有喷气管，所述喷气管贯穿横梁并延伸至其下方。
11.优选的，所述套管的内壁焊接有弹簧，所述弹簧的另一端与支杆的表面焊接。
12.优选的，所述横梁的底部焊接有加固架，所述加固架的内壁固定安装有轴承，且轴
承的内圈与转管的表面固定安装，所述加固架通过轴承与转管转动连接。
13.优选的，所述横梁的内壁焊接有隔板，所述隔板位于软管的右侧。
14.优选的，所述竖梁的左侧开设有滑槽，且滑槽的内腔滑动连接有滑块，所述滑块的左侧与横梁的右侧焊接。
15.与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：本实用新型通过第二电机来驱动转管进行旋转，并且通过转管来带动刮板转动，使刮板对反应室的内壁进行刮洗，将附着在反应室内壁上的沉积膜刮除，同时在抽气机的作用下，掉落在反应室内部的沉积膜会被抽取到收集盒中进行收集，而且抽气机排出的气体能够辅助刮板再次对反应室的内壁进行冲刷，进一步提升清洗洁净度，从而解决了附着牢固沉积物无法清理的问题，非常值得推广。
附图说明
16.为了更清楚地说明本实用新型实施例的技术方案，下面将对实施例描述所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
17.图1为本实用新型结构示意图；
18.图2为本实用新型转管和刮板立体示意图；
19.图3为本实用新型竖梁俯视剖面图；
20.图4为本实用新型套管局部正视剖面图；
21.图5为本实用新型收集盒俯视剖面图。
22.附图中，各标号所代表的部件列表如下：
23.1、底座；2、竖梁；3、螺纹杆；4、第一电机；5、套筒；6、横梁；7、第二电机；8、主动轮；9、从动轮；10、转管；11、吸尘罩；12、套管；13、支杆；14、刮板；15、软管；16、抽气机；17、收集盒；18、挡网；19、输送管；20、分流管；21、喷气管；22、弹簧；23、加固架；24、隔板；25、滑块。
具体实施方式
24.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例，基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本实用新型保护的范围。
25.实施例一
26.请参阅附图，本实用新型提供一种技术方案：一种去除cvd反应腔体内壁沉积膜的装置，包括底座1，底座1的顶部焊接有竖梁2，竖梁2的内壁转动连接有螺纹杆3，底座1内腔的顶部固定安装有第一电机4，第一电机4的输出轴与螺纹杆3的底部固定安装，螺纹杆3的表面螺纹连接有套筒5，套筒5的左侧焊接有横梁6；
27.横梁6内腔的左侧固定安装有第二电机7，第二电机7的输出轴固定安装有主动轮8，主动轮8的表面绕设有皮带，主动轮8通过皮带传动连接有从动轮9，从动轮9的内壁固定安装有转管10，转管10的底部贯穿到横梁6的外部，转管10的底部连通有吸尘罩11，转管10的两侧均固定安装有套管12，套管12的内壁滑动连接有支杆13，支杆13的一端固定安装有
刮板14；
28.横梁6的底部连通有软管15，软管15的另一端与底座1的顶部连通，底座1内腔底部的右侧固定安装有抽气机16，抽气机16的排气端贯穿到底座1的外部，底座1的正面插入有收集盒17。
29.具体的，收集盒17位于软管15的正下方，收集盒17的右侧开设有气口，且气口的内壁固定安装有挡网18。
30.具体的，抽气机16的排气端连通有输送管19，输送管19的另一端连通有分流管20，分流管20底部的两侧均连通有喷气管21，喷气管21贯穿横梁6并延伸至其下方。
31.具体的，横梁6的内壁焊接有隔板24，隔板24位于软管15的右侧。
32.具体的，竖梁2的左侧开设有滑槽，且滑槽的内腔滑动连接有滑块25，滑块25的左侧与横梁6的右侧焊接。
33.本实施例的工作原理为：首先将该装置移动到沉积炉的附近，并且将沉积炉的顶盖开启，然后第一电机4的输出轴带动螺纹杆3进行旋转，螺纹杆3带动套筒5移动，套筒5带动横梁6，在横梁6移动的过程中，能够得到滑块25的辅助支撑，使其稳定移动，横梁6能够带动安装在其上的结构件进行移动，以便于将刮板14和软管15插入到沉积炉的反应室中；
34.当刮板14和转管10进入到反应室中后，第二电机7的输出轴带动主动轮8旋转，主动轮8通过皮带带动从动轮9旋转，从动轮9带动转管10旋转，转管10带动套管12、支杆13和刮板14旋转，刮板14将附着在反应室内壁上的沉积膜刮除，并且抽气机16通过软管15将横梁6内部的气体抽取使其气压降低，在大气压强的作用下，反应室内部的气体通过吸尘罩11和转管10进入到横梁6中，并且通过隔板24阻挡后通过软管15进入到收集盒17中，并且在气体流动的时候，能够将刮除的杂质携带到收集盒17中，杂质通过挡网18过滤后遗留在收集盒17中，并且抽气机16的排气端能够通过输送管19将抽取的气体排进分流管20中，最终通过喷气管21喷射在反应室内壁上，以辅助刮板14对反应室内壁进行清洗，以进一步提升清洗质量；
35.该装置中收集盒17为可拆卸式设计，当收集盒17中收集的杂质过多时，可将其从底座1中取出进行清理。
36.实施例二
37.本实施例的结构与实施例一基本相同，不同之处在于，套管12的内壁焊接有弹簧22，弹簧22的另一端与支杆13的表面焊接，通过弹簧22的设置，能够对支杆13施加作用力，通过支杆13的推力作用，使刮板14始终紧贴在反应室的内壁上，从而提升刮板14刮洗的力度，提升刮洗效果。
38.实施例三
39.本实施例的结构与实施例一基本相同，不同之处在于，横梁6的底部焊接有加固架23，加固架23的内壁固定安装有轴承，且轴承的内圈与转管10的表面固定安装，加固架23通过轴承与转管10转动连接，通过加固架23的设置，能够对转管10进行加固，以提升转管10在旋转时候的稳定性，防止其产生歪斜。
40.在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“示例”、“具体示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本实用新型的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或
示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
41.以上公开的本实用新型优选实施例只是用帮助阐述本实用新型。优选实施例并没有详尽叙述所有的细节，也不限制该实用新型仅为的具体实施方式。显然，根据本说明书的内容，可作很多的修改和变化。本说明书选取并具体描述这些实施例，是为了更好地解释本实用新型的原理和实际应用，从而使所属技术领域技术人员能很好地理解和利用本实用新型。本实用新型仅受权利要求书及其全部范围和等效物的限制。

技术特征：

1.一种去除cvd反应腔体内壁沉积膜的装置，包括底座(1)，其特征在于：所述底座(1)的顶部焊接有竖梁(2)，所述竖梁(2)的内壁转动连接有螺纹杆(3)，所述底座(1)内腔的顶部固定安装有第一电机(4)，所述第一电机(4)的输出轴与螺纹杆(3)的底部固定安装，所述螺纹杆(3)的表面螺纹连接有套筒(5)，所述套筒(5)的左侧焊接有横梁(6)；所述横梁(6)内腔的左侧固定安装有第二电机(7)，所述第二电机(7)的输出轴固定安装有主动轮(8)，所述主动轮(8)的表面绕设有皮带，所述主动轮(8)通过皮带传动连接有从动轮(9)，所述从动轮(9)的内壁固定安装有转管(10)，所述转管(10)的底部贯穿到横梁(6)的外部，所述转管(10)的底部连通有吸尘罩(11)，所述转管(10)的两侧均固定安装有套管(12)，所述套管(12)的内壁滑动连接有支杆(13)，所述支杆(13)的一端固定安装有刮板(14)；所述横梁(6)的底部连通有软管(15)，所述软管(15)的另一端与底座(1)的顶部连通，所述底座(1)内腔底部的右侧固定安装有抽气机(16)，所述抽气机(16)的排气端贯穿到底座(1)的外部，所述底座(1)的正面插入有收集盒(17)。2.根据权利要求1所述的去除cvd反应腔体内壁沉积膜的装置，其特征在于：所述收集盒(17)位于软管(15)的正下方，所述收集盒(17)的右侧开设有气口，且气口的内壁固定安装有挡网(18)。3.根据权利要求1所述的去除cvd反应腔体内壁沉积膜的装置，其特征在于：所述抽气机(16)的排气端连通有输送管(19)，所述输送管(19)的另一端连通有分流管(20)，所述分流管(20)底部的两侧均连通有喷气管(21)，所述喷气管(21)贯穿横梁(6)并延伸至其下方。4.根据权利要求1所述的去除cvd反应腔体内壁沉积膜的装置，其特征在于：所述套管(12)的内壁焊接有弹簧(22)，所述弹簧(22)的另一端与支杆(13)的表面焊接。5.根据权利要求1所述的去除cvd反应腔体内壁沉积膜的装置，其特征在于：所述横梁(6)的底部焊接有加固架(23)，所述加固架(23)的内壁固定安装有轴承，且轴承的内圈与转管(10)的表面固定安装，所述加固架(23)通过轴承与转管(10)转动连接。6.根据权利要求1所述的去除cvd反应腔体内壁沉积膜的装置，其特征在于：所述横梁(6)的内壁焊接有隔板(24)，所述隔板(24)位于软管(15)的右侧。7.根据权利要求1所述的去除cvd反应腔体内壁沉积膜的装置，其特征在于：所述竖梁(2)的左侧开设有滑槽，且滑槽的内腔滑动连接有滑块(25)，所述滑块(25)的左侧与横梁(6)的右侧焊接。

技术总结

本实用新型公开了气相沉积技术领域的一种去除CVD反应腔体内壁沉积膜的装置，包括底座，所述底座的顶部焊接有竖梁，所述竖梁的内壁转动连接有螺纹杆，所述底座内腔的顶部固定安装有第一电机，所述第一电机的输出轴与螺纹杆的底部固定安装，本实用新型通过第二电机来驱动转管进行旋转，并且通过转管来带动刮板转动，使刮板对反应室的内壁进行刮洗，将附着在反应室内壁上的沉积膜刮除，同时在抽气机的作用下，掉落在反应室内部的沉积膜会被抽取到收集盒中进行收集，而且抽气机排出的气体能够辅助刮板再次对反应室的内壁进行冲刷，进一步提升清洗洁净度，从而解决了附着牢固沉积物无法清理的问题，非常值得推广。非常值得推广。非常值得推广。