一种透明导电膜及触控屏的制作方法

1.本实用新型涉及触控技术领域，具体涉及一种透明导电膜及触控屏。

背景技术：

2.目前业界大尺寸触控显示产品的触控部分采用双层金属网格或双层ito层的结构，此方案需上下两层金属网格或两层ito层同时匹配显示屏使用，上下两层金属网格组合后，会造成成品显示的网格更小，密度更高，透过率更低，同时鉴于两层金属网格易产生摩尔纹干涉，会造成成品的显示效果不佳，可视性差；而ito层存在阻抗高的特性，会降低成品的触控效果，使得产品使用体验差。

技术实现要素：

3.为解决上述技术问题，本实用新型采用ito层与金属层结合在基材两侧的方式有利于降低金属网格的周期，有效降低金属网格造成的摩尔干涉纹的风险，优化显示效果，提升产品使用体验，具体技术方案如下：
4.一种透明导电膜，包括基材，还包括分别形成于基材两侧的ito层和金属层，其中，所述ito层与基材之间还形成有调整im层，所述基材形成有金属层的一侧还形成有位于金属层上表面的bm层。
5.优选的，所述基材上下表面均形成有硬涂层，所述调整im层形成于硬涂层背离基材一侧，所述ito层形成于调整im层背离硬涂层一侧，所述金属层形成于硬涂层背离基材一侧的表面。
6.优选的，当所述ito层形成于基材上表面一侧，金属层形成于基材下表面一侧时，所述bm层形成于硬涂层与金属层之间。
7.优选的，当所述ito层形成于基材下表面一侧，金属层形成于基材上表面一侧时，所述bm层形成于金属层背离硬涂层一侧。
8.优选的，所述调整im层和bm层均至少为一层。
9.优选的，所述调整im层为mgf膜、al2o3膜、sio2膜、sio膜或oc膜中的一种；所述bm层为黑矩阵层，其材质为铜的氧化物，包括氧化铜、氧化铜镍及氮化铜。
10.优选的，还包括形成在ito层背离调整im层一侧的第二金属层。
11.优选的，所述金属层和第二金属层的材料为铜或银。
12.优选的，所述基材材质为pet或cop。
13.一种触控屏，包括前述的透明导电膜。
14.由以上技术方案可知，本实用新型具有如下有益效果：本实用新型采用ito层与金属层结合在基材两侧的方式有利于降低金属网格的周期，有效降低金属网格造成的摩尔干涉纹的风险，优化显示效果，提升产品使用体验，同时结合调整im层和 bm层的设置，可进一步提升产品的视觉效果，此外，一层ito层导电层与一层金属网格结合的方式，以利用金属网格层方阻低的特性，达到降低原两层ito导电层的导电膜的阻抗值，以提高产品的触控效
果。
附图说明
15.图1为本实用新型提供的透明导电膜的一个实施例的示意图；
16.图2为本实用新型提供的透明导电膜的另一个实施例的示意图；
17.图3为将图1实施例的透明导电膜上第二金属层去除的流程图。
18.图中：10、基材；20、ito层；30、金属层；40、调整im层；50、bm层；60、硬涂层；70、第二金属层。
具体实施方式
19.以下结合附图和具体实施例，对本实用新型进行详细说明，在详细说明本实用新型各实施例的技术方案前，对所涉及的名词和术语进行解释说明，在本说明书中，名称相同或标号相同的部件代表相似或相同的结构，且仅限于示意的目的。
20.本技术中使用的专用名称、英文简称及对应中文翻译如下：
21.im为index match的简称，中文指：折射率匹配。
22.ito为indium tin oxides的简称，中文指：氧化铟锡。
23.bm为black mask的简称，中文指：黑边框.
24.oc为over coating的简称，中文为：覆盖层；在触控屏中特指：负光阻绝缘感光胶。
25.参照图1，一种透明导电膜，包括基材10，基材的厚度为50～100μm，还包括分别形成于基材两侧的ito层20和金属层30，ito层的厚度为15～25nm，金属层的厚度为250～500nm，方阻为0.5～1ohm，其中，在所述ito层与基材之间还形成有调整im层40，调整im层厚度为50～100nm，方阻为70～150ohm，即ito层和金属层分别形成在基材10的两侧，且基材10形成有金属层30的一侧还形成有位于金属层上表面的bm层，bm层厚度为40～50nm，该bm层为一种黑绝缘材料，主要作用是隔绝rgb以防止在外观上的混，同时还具有遮光，以遮蔽金属层的作用，使得该导电膜的视觉效果更佳，本实用新型中，采用一层ito层与一层金属层结合在基材两侧的方式有利于降低金属网格的周期，有效降低金属网格造成的摩尔干涉纹的风险，优化显示效果，同时结合调整im层和bm层的设置，可进一步提升产品的视觉效果，此外，利用金属层方阻低的特性，以达到降低原两层ito导电层的导电膜的阻抗值，以提高产品的触控效果，提升产品使用体验。
26.需要说明的是，本实用新型中基材上各膜层的形成方式可以采用涂布、溅射、蒸镀等方式，具体形成方式视材料材质而定。
27.作为本实用新型优选的技术方案，所述基材10上下表面均形成有硬涂层60，硬涂层的厚度为0.2～2μm，硬涂层60的作用一方面是保护基材表面防止在制程中刮伤，另一方面增加基材表面平整度，增加后制程的附着力以及镀膜表面平整性，这样一来，当在基材10上下表面形成有硬涂层后，所述的调整im层40形成于硬涂层背离基材一侧，所述ito层20形成于调整im层40背离硬涂层一侧，而此时的金属层30形成于硬涂层60背离基材一侧的表面。
28.进一步的，本实用新型中的ito层20和金属层30分置于基材的上下两个表面，具体分为ito层设置在基材上表面而金属层设置在基材下表面、以及ito层设置在基材下表面而
金属层设置在基材上表面两种情况，当所述的ito层20形成于基材 10上表面一侧、金属层30形成于基材10下表面一侧时，此时的调整im层40的下表面贴合在硬涂层上表面，ito层贴合在调整im层40上表面，金属层30贴合在ito 层20的上表面，bm层50形成于硬涂层60与金属层30之间，即bm层的上表面与硬涂层的下表面贴合，bm层的下表面与金属层上表面贴合。
29.参照图2，当所述ito层20形成于基材10下表面一侧，金属层30形成于基材 10上表面一侧时，所述bm层50形成于金属层30背离硬涂层60一侧，此时调整im 层20的上表面贴合在硬涂层60的下表面，ito层的上表面贴合在调整im层的下表面，而此时的金属层下表面贴合在硬涂层的上表面，bm层的下表面贴合在金属层的上表面。
30.本实用新型中，所述调整im层40和bm层50均设置为至少一层，即调整im层和bm层可设置成一层、两层、三层...且调整im层和bm层的数量可以相同，也可以不同，即当调整im层为一层时，bm层可以为一层、两层、三层...而当bm为一层时，调整im层可以为一层、两层、三层...在本实用新型中对调整im层和bm层的数量并不做过多限制。
31.作为本实用新型优选的技术方案，所述调整im层40为mgf膜、al2o3膜、sio2膜、sio膜或oc膜中的一种，即调整im层可以为采用mgf、al2o3、sio2、sio或oc 材料制作的膜层，需要说明的是，当调整im层为多层结构时，调整im层可以采用上述膜材中的一种或多种，即不同膜材可以结合使用，当然，在其他一些实施例中，调整im层也可以采用其他材料制作的膜层，以调节整个导电膜的折射率，使该导电膜具有较佳的视觉效果。
32.进一步的，所述bm层50为黑矩阵层，其材质为铜的氧化物，可以为氧化铜、氧化铜镍或氮化铜中一种，bm层可以通过溅镀技术形成，具体的形成方式为现有技术，在此不再进行赘述，该bm层为一种黑绝缘材料，具有隔绝rgb以避免外观混、以及遮光的作用，可对金属层进行遮蔽，可提高该导电膜的视觉效果，提升产品使用体验，需要说明的是，当bm层为多层结构时，bm层可以采用上述膜材中的一种或多种，即不同膜材可以结合使用，当然，在其他一些实施例中，bm层也可以采用其他材料制作的膜层。
33.作为本实用新型优选的技术方案，还包括形成在ito层20背离调整im层40一侧的第二金属层70，第二金属层的厚度为250～500nm，方阻为0.5～1ohm，即无论是ito层位于基材的上表面还是位于基材的下表面，在ito层背离基材一侧均形成有一层上述的第二金属层70，该第二金属层的下表面贴合在ito层的上表面，第二金属层70作为边缘引线层使用，在具体的使用过程中会在其表面形成用于与外界驱动电路连接的引线层，由于通过ito层向外引线时会导致整个导电膜的阻抗过大，因此设置此第二金属层，可避免上述问题发生。
34.进一步的，所述金属层30和第二金属层70的材料为铜或银，优选的，金属层和第二金属层采用铜，当然，金属层和第二金属层并不限于铜或银两种材质，在其他一些实施例中，也可以采用其他材质的金属。
35.进一步的，所述基材10材质为pet或cop，即基材可以是pet基板，也可以是 cop基板，当然也可以是玻璃基板，具体的用户可根据实际需求进行选择。
36.参照图3，下面以ito层20设置在基材10上表面、金属层30设置在基材下表面为例，描述将ito层上侧的第二金属层去除以实现透明化的步骤：(1)、在上下两层表面同时形成uv胶层；(2)、形成的上下两层uv胶层经曝光形成预设的网格图案，而后经显影显示出前述预设的网格图案；(3)、对所述网格图案范围内的区域进行蚀刻保护，并采用蚀刻工艺对步骤(2)中形成的导电膜进行进行蚀刻，以消蚀所述导电膜位于所述网格图案范围外的部分
以得到金属网格；(4)、在导电膜的上层形成第二uv胶层，形成的第二uv胶层经曝光形成预设的第二网格图案，而后经显影显示出预设的第二网格图案，最后对第二网格图案范围内的区域进行蚀刻保护，并采用蚀刻工艺对导电膜的上层进行蚀刻，以消蚀所述导电膜位于第二网格图案范围外的部分以在导电膜上层的第二金属层形成预设网格图案，实现透明化。
37.本实用新型还提供了一种触控屏，包括上述的透明导电膜，利用上述透明导电膜ito层与金属层结合在基材两侧的方式有利于降低金属网格的周期，有效降低金属网格造成的摩尔干涉纹的风险，优化显示效果，同时结合调整im层和bm层的设置，可进一步提升产品的视觉效果，此外，利用金属层具有方阻低的特点以提高产品的触控效果，提升产品使用体验。
38.以上所述实施方式仅仅是对本实用新型的优选实施方式进行描述，并非对本实用新型的范围进行限定，在不脱离本实用新型设计精神的前提下，本领域普通技术人员对本实用新型的技术方案作出的各种变形和改进，均应落入本实用新型的权利要求书确定的保护范围内。

技术特征：

1.一种透明导电膜，包括基材(10)，其特征在于，还包括分别形成于基材两侧的ito层(20)和金属层(30)，其中，所述ito层与基材之间还形成有调整im层(40)，所述基材(10)形成有金属层(30)的一侧还形成有位于金属层上表面的bm层(50)。2.根据权利要求1所述的透明导电膜，其特征在于，所述基材(10)上下表面均形成有硬涂层(60)，所述调整im层(40)形成于硬涂层背离基材一侧，所述ito层(20)形成于调整im层(40)背离硬涂层一侧，所述金属层(30)形成于硬涂层(60)背离基材一侧的表面。3.根据权利要求2所述的透明导电膜，其特征在于，当所述ito层(20)形成于基材(10)上表面一侧，金属层(30)形成于基材(10)下表面一侧时，所述bm层(50)形成于硬涂层(60)与金属层(30)之间。4.根据权利要求2所述的透明导电膜，其特征在于，当所述ito层(20)形成于基材(10)下表面一侧，金属层(30)形成于基材(10)上表面一侧时，所述bm层(50)形成于金属层(30)背离硬涂层(60)一侧。5.根据权利要求2所述的透明导电膜，其特征在于，所述调整im层(40)和bm层(50)均至少为一层。6.根据权利要求5所述的透明导电膜，其特征在于，所述调整im层(40)为mgf膜、al2o3膜、sio2膜、sio膜或oc膜中的一种；所述bm层(50)为黑矩阵层，其材质为铜的氧化物，包括氧化铜、氧化铜镍及氮化铜。7.根据权利要求6所述的透明导电膜，其特征在于，还包括形成在ito层(20)背离调整im层(40)一侧的第二金属层(70)。8.根据权利要求7所述的透明导电膜，其特征在于，所述金属层(30)和第二金属层(70)的材料为铜或银。9.根据权利要求7所述的透明导电膜，其特征在于，所述基材(10)材质为pet或cop。10.一种触控屏，其特征在于，包括权利要求1-9任一项所述的透明导电膜。

技术总结

本实用新型提供一种透明导电膜，包括基材，还包括分别形成于基材两侧的ITO层和金属层，所述ITO层与基材之间还形成有调整IM层，基材形成有金属层的一侧还形成有位于金属层上表面的BM层，基材上下表面均形成有硬涂层，调整IM层形成于硬涂层背离基材一侧，ITO层形成于调整IM层背离硬涂层一侧，所述金属层形成于硬涂层背离基材一侧的表面。本实用新型的透明导电膜利用ITO层与金属层结合在基材两侧的方式有利于降低金属网格的周期，有效降低金属网格造成的摩尔干涉纹的风险，优化显示效果，提升产品使用体验，同时结合调整IM层和BM层的设置，可进一步提升产品的视觉效果；此外，利用金属层具有方阻低的特点可以提高产品的触控效果。果。果。