应克标
功率变送器原理2005-6-22 --------ヤケ（腐蚀、发霉、压克）
定义：
镜片表面被腐蚀。在对策时一定要区分是ヤケ还是脏污，才能出真因。 前言：
光学玻璃的结构：以硅酸盐为主（SiO3 ）加上Mg(镁) Ba（钡）K（钾）La （钄）Pb （铅）等几十种离子混合而成。而Mg(镁) Ba（钡）K（钾）La （钄）Pb（铅）等是活性金属离子，它们是用来调节镜片的折射率（nd）、散系数(vd)的添加剂.按理论分析正常状态的玻璃的结构是具有均匀性、混合地分布各种离子、离子键及化学键。但在加工过程中受各种因素的影响而使镜片结构发生变化（形成硅酸溶胶）。
ヤケ定义：
ヤケ即腐蚀、发霉，指镜片研磨完品或膜层上形成化学腐蚀层，从而从镜片表面看与正常状态 有颜差异。ヤケ大致可以分为膜上ヤケ和膜下ヤケ。下列为常见的几种现象：
芯取油未全部浸泡或凹面有空气雾状セ蓝点或绿点セ白セ手指印セ
酸盐、金属离子与研磨液发生化学反应，造成PH值变化）对镜片的腐蚀，镀前反射光可
见灰暗不同现状的痕迹；
Ø镀前透过光检查为白雾状；
Ø研磨完品未及时进行清洗（或擦拭），研磨残留（研磨液或水）对镜片的腐蚀；
Ø清洗后镜片暴露空气接触水分等太长，镜片受腐蚀；
Ø洗净烘干时水分残留；
Ø擦拭时后的溶剂残留；。
涂料分散机Ø因镜片放置在镀膜伞的不同位置，基底温度不均匀；造成镀膜伞上、中、下膜差异；
Ø镀膜蒸发源偏离原有设定位置，造成在镀膜伞上中下蒸发膜厚不均匀；
Ø镀膜使用离子源时，离子覆盖的范围没有调整合适，离子流密度不均匀造成；
3、膜层脏污：（非ヤケ，镀前不可见）
Ø膜下脏，指镀前未处理干净，镀膜后形成明显的膜差异，透过光可见。
Ø膜上脏，包括普通可擦拭的脏和难擦拭的脏污；镀膜真空室长期未清洁（洁净度差），膜层致密度低，灰尘、脏污粘付到膜层上时难以擦拭；镀膜后膜层污染，经高温环境后形成
膜层脏污；
Ø因镜片表面研磨表面Ra（粗糙度）大，镀膜前擦拭可感觉有涩感；镀膜后擦拭表面形成雾状，经超声波洗净后OK；
4、膜下ヤケ：
Ø白ヤケ：镀后在透过光下能见白雾状层，为镀前产生；镜片表面残留物（研磨保护漆）在真空室经高温烘烤分解，在表面形成白雾层，可用溶剂擦拭去除；镀前不可见；
Ø镜片表面富含透明残留物经高温烘烤后，与镜片发生反应形成表面剧烈腐蚀；镀前不可见；
Øヤケ：研磨后不明显，镀膜放置后加重；镀前不可见
Ø斑：研磨涂保护漆前已研磨好表面残留的水痕、研磨液没有及时去除彻底，涂好保护漆经高温烘烤好在表面形成腐蚀痕；
5、膜ヤケ：
Ø由于膜料特性及镀膜工艺不稳定造成膜层致密性差，镀后吸收水份与O2离子，擦拭无明显变化，烘烤或放置一段时间后会变严重或消失；可通过测试高温与低温时分光曲线的变
化（差异小于20nm）显现。
Ø
Ø膜层结晶时高温下受损（某一层膜厚太薄≤160A），膜料与基底发生反应，高温下再结晶时不均匀，形成局部分光特性变化；
Ø研磨在表面形成不同的折射率区域；
Ø镀膜真空室内油污严重，存在大量各类杂质气体，加热后吸附在镜片表面，造成膜层结晶粗糙，膜层在大气中吸附各类气体水分，形成局部分光特性变化，可通过测试高温与低温
时分光曲线的变化（差异小于20nm）显现；
Ø已镀膜镜片在擦拭作业后表面残留的溶剂、水痕等没有去除干净，又放入高温环境下烘烤；
6、雾状：（非ヤケ）
Ø表面粗糙、半透明，主要因为材质软、研磨量不足或洗净时被化学溶剂腐蚀；
Ø镜片长期被酸碱强烈腐蚀
7、黑ヤケ
Ø镀膜膜料金属氧化物失O2造成（与O2反应不充分，特别是在使用离子源的时候），镜片置于白背景可见底；置于富氧环境中高温烘烤后，黑斑点消失；
Ø多片研磨使用粘贴胶，没有彻底去除，
Ø研磨液没有及时去除，镜片表面长期没有得到良好保护，点状腐蚀严重；
8、细伤痕：（非ヤケ）
Ø研磨完品表面细（浅）、长、密的伤痕，主要因为材质软、砂挂残留、研磨量不足、研磨纸（粉）选择与配比不恰当，超洗加重潜伤等；
Ø镜片表面研磨加工时由于研磨液（浓度、PH值、颗粒、温度）等影响，镜片表面在化学流布的作用下形成光滑表面，但超声波洗净后使潜在伤痕显现，同时伴有研磨液与洗剂的
腐蚀；
9、水纹印ヤケ
Ø洗净烘干时IPA纯度下降，（或其他烘干剂烘干效果不好）水份未及时蒸干；
Ø洗剂与除油剂经过剩余其他洗槽没有去除彻底，表面残留较多；
Ø镜片表面水分与残留雾在真空室内，经高温解析后形成H＋/OH-，在镜片表面蒸发与凝结形成表面轻微腐蚀。
ヤケ关联图：
通常处理思路：
一. 目前所有对策都是加快流程，杜绝人为造成镜片表面的污染（手指痕、口水痕、其他污物）；
降低表面洁净镜片暴露于大气中被腐蚀的时间；提高膜层致密度；
1、镀前ヤケ：
Ø检查方法：
²反射光下“哈汽法”确认有无残留点状痕迹/水纹印；
²强光灯下确认有无脏污/白ヤケ；
²日光灯反光确认镜片有无黑ヤケ；
2、镀膜差
Ø对策/处理：
²镀膜均匀度调整（镀膜专业人员）
2.1.膜ヤケ
Ø对策:
²砂挂条件变更（钻石粒粒度、时间、压力条件、两支加工调整等）à确保砂挂完品表面粗糙度）；
²研磨条件变更（加工时间、研磨纸、研磨液（PH、浓度、颗粒度）、温度、压力条件等）à确保研磨完品表面粗糙度）；
²研磨完品在取出后即时清洁表面残留研磨液与水分，保持表面的洁净度（注意清洁方法与清洁辅料与更换周期）；
²镀前处理：使用手工表面返修（单轴机手工返修）
Ø试验/验证：
²通过反射光下“哈汽法”，镀前检查确认表面光洁度；
²使用透过光旋转检查研磨表面有无白雾、表面研磨刷子状痕迹；
²通过镀前处理（手工返修）后镀制来验证研磨完品表面质量；
3、膜层脏污：
A、膜上脏污：
Ø对策/处理：
²膜系调整（如加镀SiO2，膜表面品质提升）；
²镀后延长烘烤时间，与镀膜使用离子源辅助镀膜（表面致密度提升）；
²镀后防尘措施（改善存放环境，降低泄大气前镜片温度，保持真空室内洁净度）；
²防止镀膜后加工工序形成表面污染，如涂墨高温烘烤与粘合UV固化加重污染，造成表面脏污；
²试验/验证：
²擦拭变化，可擦拭与超声波清洗去除；
B、膜下脏污：
Ø对策/处理：---- 镀前处理
²洗净处理（确认洗剂浓度与PH值，提高超声波强度，延长洗净时间，特殊洗净工艺）；
²研磨完品在取出后即时清洁表面残留研磨液与水分，保持表面的洁净度（注意清洁方法与清洁辅料与更换周期）；
²研磨完品表面手指痕、口水痕、其他污染即时去除；
²手工返修处理（研磨粉、CaCO3+干油等擦拭）；
Ø试验/验证：
²镀前反射光下“哈汽法”确认，
²镀后不可擦拭
4、膜下ヤケ：
Ø对策/处理：---- 镀前处理
²研磨条件变更（考虑材质对研磨液等调整）
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²考虑材质调整研磨工艺：
n采取研磨后直接镀膜工艺：芯取à研磨à手工擦拭、检查à镀膜；
n采取易ヤケ面后加工工艺（避免多片加工、采取单元一个流作业等）；
n缩短研磨后到镀膜的时间（检查前置、免洗净）；
n研磨完品清擦（吸水棉布，擦拭后达可镀清洁度），二次清擦法，及时更换擦布；
n已擦拭好研磨完品防潮、防湿（研磨后立即泡IPA，卤素灯烘干+PE袋+干燥剂等）；
n先镀易ヤケ面
²洗净处理（考虑材质及镜片形状对洗净条件进行调整，如洗净液、镜片放置方向等）
²手工处理（研磨粉、CaCO3+干油等擦拭）
Ø试验/验证：
²通过手工处理确认镀后品质
²镀前强光灯下可见、哈气法检查
5、膜ヤケ：
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Ø对策/处理：
²镀膜工艺改进（膜层致密度提高（蒸发速率、基底温度、离子源使用、实际真空度、镀膜膜料、真空室的洁净度））；
²使用高能离子去除表面残留污染，例如：使用SHINCRON SID－1100镀膜；
²镀前、镀后烘烤时间加长
²镀后完品防尘、防湿
Ø试验/验证：
²一般擦拭不变化（研磨粉、CaCO3擦拭变化，膜层破坏）
²放置变化（变重/消失）
数字调谐器6、雾状：
Ø对策/处理：
²砂挂加工条件改善（钻石粒粒度、时间、压力条件、两支加工调整等）à确保砂挂完品表面粗糙度）；
²研磨条件变更（加工时间、研磨纸、研磨液、压力条件等）à确保研磨完品表面粗糙度）；
²研磨完后追加黑毛纸抛光；
²洗净条件改善（洗剂、时间、温度等）；
²镀膜第一层加AL2O3等，离子源电压（160V～120V）调整，与离子电流密度增加，离子源反应气体流量适当增加；
²膜层致密度提高；
Ø试验/验证：
²对不同粗糙度的砂挂完品试验，确认砂挂外观对研磨完品的影响程度
²通过手擦、洗净两种工艺后的品质确认洗净的影响程度
7、黑ヤケ
Ø反射光检查
Ø对策
²镀膜时O2的增加
²研磨液残留及时去除，表面脏污及时清理
8、：细伤痕
Ø同雾状离子风机aryang
9、水纹ヤケ
Ø更换烘干剂
以上
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