蒸镀掩模的制作方法

1.本发明涉及蒸镀掩模。

背景技术：

2.在有机el设备所具备的有机el元件的形成时使用利用了蒸镀掩模的真空蒸镀。蒸镀掩模由非常薄的金属板形成。量产的蒸镀掩模的厚度例如包括50μm以下的部分。在输送蒸镀掩模时，蒸镀掩模收容于蒸镀掩模用壳体以抑制蒸镀掩模的变形(例如参照专利文献1)。
3.现有技术文献
4.专利文献
5.专利文献1：日本实用新型登记第3207895号

技术实现要素：

6.发明所要解决的课题
7.然而，蒸镀掩模以在蒸镀掩模的厚度方向上被一对无尘纸夹住的状态收容于蒸镀掩模用壳体。在将蒸镀掩模向蒸镀掩模用壳体收容时、将蒸镀掩模用壳体输送时、以及将蒸镀掩模从蒸镀掩模用壳体中取出时，在蒸镀掩模与无尘纸之间产生摩擦。在蒸镀掩模与无尘纸之间产生的摩擦使被蒸镀掩模的表面挂住的纤维作为异物附着于蒸镀掩模。
8.本发明的目的在于提供能够抑制纤维向蒸镀掩模附着的蒸镀掩模。
9.用于解决课题的手段
10.用于解决上述课题的蒸镀掩模为金属制的蒸镀掩模，所述蒸镀掩模具备栅格构造，该栅格构造具备表面以及背面，且具有划分出多个掩模孔的二维的网眼状，该多个掩模孔连接位于所述表面的大开口与位于所述背面的小开口，在所述表面中，彼此相邻的大开口的边界处的以jis b 0601：2013为基准的算术平均粗糙度ra为1.35μm以下，所述边界处的以jis b 0601：2013为基准的最大高度rz为6.8μm以下。
11.用于形成蒸镀掩模的金属板所具有的表面粗糙度通常被设定得充分小以获得金属板与抗蚀剂的紧贴性。另一方面，形成有掩模孔之后的金属板的表面粗糙度、即蒸镀掩模的表面粗糙度以掩模孔所具有的阶差的量具有较大的阶差。而且，表面中的大开口之间的距离比背面中的小开口之间的距离短，因此每单位长度的表面中的阶差容易比每单位长度的背面中的阶差大。换言之，在掩模孔的加工前为充分平坦的金属板的面，在栅格构造的表面中比在背面中残留少，在栅格构造的表面中，与背面相比表面粗糙度变大作为阶差的要因的掩模孔的区域拓宽的量。关于这一点，只要在表面粗糙度较大的栅格构造的表面中，算术平均粗糙度ra为1.35μm以下，则能够在栅格构造的表面以及背面双方抑制纤维的附着。结果，能够抑制纤维向蒸镀掩模附着。
12.此外，粗糙度曲线的最大高度rz为最大峰高rp与最大谷深rv之和。因此，最大高度rz越大，蒸镀掩模的表面越容易具有将形成无尘纸的纤维挂住的峰部，此外，越容易具有纤
维嵌入的谷部。关于这一点，若最大高度rz为6.8μm以下，则可使位于蒸镀掩模的表面的峰部具有不易挂住纤维的高度，并且谷部具有纤维不易嵌入的深度。
13.在上述蒸镀掩模中也可以是，具备：凹陷，位于所述栅格构造的栅格线；以及顶部，位于所述栅格构造的栅格点、是所述凹陷彼此连接的部分，所述凹陷与所述顶部构成所述边界。
14.在上述蒸镀掩模中，所述顶部也可以为平面。根据该构成，位于大开口的对角方向的大开口之间不被蚀刻而残留，由此顶部为平面，因此纤维更难以附着。
15.在上述蒸镀掩模中也可以是，所述栅格构造具备在所述表面中线宽度较宽的第一栅格线、以及在所述表面中线宽度较窄的第二栅格线，所述第一栅格线与所述第二栅格线构成所述边界，所述表面中的所述第一栅格线处的以jis b 0601：2013为基准的算术平均粗糙度ra，比所述表面中的所述第二栅格线处的以jis b 0601：2013为基准的算术平均粗糙度ra小。
16.根据上述构成，与第二栅格线相比与无尘纸的接触面积较大的第一栅格线的算术平均粗糙度ra，比第二栅格线的算术平均粗糙度ra小，因此在蒸镀掩模与无尘纸之间产生摩擦时，能够抑制来自于无尘纸的纤维的脱离。
17.发明效果
18.根据本发明，能够抑制纤维向蒸镀掩模附着。
附图说明
19.图1是表示具备第一实施方式的蒸镀掩模的掩模装置中的构造的俯视图。
20.图2是表示第一实施方式的蒸镀掩模中的构造的立体图。
21.图3是表示从与第一实施方式的蒸镀掩模中的表面对置的视点观察的构造的俯视图。
22.图4是表示从与第一实施方式的蒸镀掩模中的背面对置的视点观察的构造的俯视图。
23.图5是表示第一实施方式的蒸镀掩模的构造的剖面图。
24.图6是示意地表示沿着将图3所示的点a1与点a4连结的直线的、蒸镀掩模的表面中的高度分布的曲线图。
25.图7是表示用于制造蒸镀掩模用基材的轧制工序的工序图。
26.图8是表示用于制造蒸镀掩模用基材的加热工序的工序图。
27.图9是表示用于制造蒸镀掩模的蚀刻工序的工序图。
28.图10是表示用于制造蒸镀掩模的蚀刻工序的工序图。
29.图11是表示用于制造蒸镀掩模的蚀刻工序的工序图。
30.图12是表示用于制造蒸镀掩模的蚀刻工序的工序图。
31.图13是表示用于制造蒸镀掩模的蚀刻工序的工序图。
32.图14是表示用于制造蒸镀掩模的蚀刻工序的工序图。
33.图15是表示实施例以及比较例的蒸镀掩模中的测定结果以及评价结果的表。
34.图16是表示从与第二实施方式的蒸镀掩模中的表面对置的视点观察的构造的俯视图。
35.图17是表示从与第二实施方式的蒸镀掩模中的背面对置的视点观察的构造的俯视图。
36.图18是示意地表示沿着将图16所示的点b1与点b2连结的直线的、蒸镀掩模的表面中的高度分布的曲线图。
37.图19是示意地表示沿着将图16所示的点c1与点c2连结的直线的、蒸镀掩模的表面中的高度分布的曲线图。
38.图20是表示实施例以及比较例的蒸镀掩模中的测定结果以及评价结果的表。
39.附图标记说明
40.10
…
蒸镀掩模
41.10a
…
图案区域
42.10b
…
周边区域
43.10f
…
表面
44.10h、20h
…
掩模孔
45.10m、20m
…
栅格构造
46.10r
…
背面
47.20m1
…
第一栅格线
48.20m2
…
第二栅格线
49.hc
…
中央开口
50.hl
…
大开口
51.hs
…
小开口。
具体实施方式
52.[第一实施方式]
[0053]
参照图1至图15对蒸镀掩模的第一实施方式进行说明。以下，依次说明掩模装置、蒸镀掩模、蒸镀掩模用基材的制造方法、蒸镀掩模的制造方法以及实施例。
[0054]
[掩模装置]
[0055]
参照图1对掩模装置进行说明。
[0056]
如图1所示，掩模装置100具备框架101、以及多个蒸镀掩模10。在图1所示的例子中，掩模装置100具备两个蒸镀掩模10，但掩模装置100既可以具备一个蒸镀掩模10，也可以具备三个以上的蒸镀掩模10。框架101具有能够支承多个蒸镀掩模10的矩形框状。框架101安装于用于进行蒸镀的蒸镀装置。框架101遍及各蒸镀掩模10所处的范围的大致整体地具有贯通框架101的框架孔101h。
[0057]
蒸镀掩模10具备图案区域10a与周边区域10b。周边区域10b是包围图案区域10a的区域。在图1所示的例子中，蒸镀掩模10具有三个图案区域10a。另外，蒸镀掩模10既可以具有两个以下的图案区域10a，也可以具有四个以上的图案区域10a。在蒸镀掩模10具有多个图案区域10a的情况下，多个图案区域10a可以包括沿蒸镀掩模10的长度方向排列的区域、以及沿蒸镀掩模10的宽度方向排列的区域中的至少一方。
[0058]
各蒸镀掩模10具有沿长度方向延伸的带状。在各蒸镀掩模10中的周边区域10b之中，在蒸镀掩模10延伸的方向上一对将多个图案区域10a夹住的部分，分别固定于框架101。
蒸镀掩模10通过粘合或者熔接等固定于框架101。
[0059]
[蒸镀掩模]
[0060]
参照图2至图6对蒸镀掩模进行说明。图2将安装于上述的掩模装置的蒸镀掩模10的一部分放大示出。
[0061]
图2所示的蒸镀掩模10为金属制。蒸镀掩模10例如由铁-镍类合金形成。蒸镀掩模10优选由铁-镍类合金之中的因瓦合金形成。蒸镀掩模10例如具有10μm以上且50μm以下的厚度t。图案区域10a是形成有多个掩模孔10h的区域。另一方面，周边区域10b是未形成有掩模孔10h的区域。蒸镀掩模10具有长度方向dl与宽度方向dw。宽度方向dw是与长度方向dl正交的方向。
[0062]
蒸镀掩模10在蒸镀掩模10的输送时被收容于蒸镀掩模用壳体。此时，蒸镀掩模10以在蒸镀掩模10的厚度方向上被一对无尘纸夹住的状态被收容于蒸镀掩模用壳体。在将蒸镀掩模10向蒸镀掩模用壳体收容时、将蒸镀掩模用壳体输送时、以及将蒸镀掩模10从蒸镀掩模用壳体中取出时，在蒸镀掩模10与无尘纸之间产生摩擦。
[0063]
图3示出了从与蒸镀掩模10展开的平面对置的视点观察的图案区域10a的一部分中的平面构造。
[0064]
如图3所示，蒸镀掩模10具有具备表面10f与背面10r(参照图4)的栅格构造10m。栅格构造10m具有划分多个掩模孔10h的二维的网眼状，该掩模孔10h将位于表面10f的大开口hl与位于背面10r(参照图4)的小开口hs(参照图4)连接。多个掩模孔10h沿长度方向dl、宽度方向dw呈栅格状地排列。
[0065]
栅格构造10m的表面10f具备位于栅格构造10m的栅格线的凹陷、以及位于栅格构造10m的栅格点而将凹陷彼此连接的部分即顶部。位于表面10f的凹陷与顶部构成了在表面10f中彼此相邻的大开口hl的边界。在图3所示的例子中，彼此相邻的大开口hl在长度方向dl以及宽度方向dw这两方上，缘部的一部分相接。此外，在通过湿式蚀刻形成多个大开口hl时，为了形成各大开口hl而被蚀刻的区域的一部分、与用于形成与该大开口hl相邻的大开口hl的被蚀刻后的区域的一部分连接。由此，形成位于栅格构造10m的栅格线的凹陷。
[0066]
各掩模孔10h具有中央开口hc。多个中央开口hc与多个掩模孔10h同样，沿长度方向dl与宽度方向dw呈栅格状地排列。从与表面10f对置的视点观察，中央开口hc比大开口hl小。在掩模孔10h中，沿着与表面10f平行的面的截面积其沿着从大开口hl向中央开口hc的方向逐渐变小。在掩模孔10h中，大开口hl至中央开口hc的部分在从与表面10f对置的视点观察时，具有倒锥台状。大开口hl至中央开口hc的部分是掩模孔10h所具备的大孔。在本实施方式中，各大开口hl的缘部具有大致正方形状。各中央开口hc的缘部也具有大致正方形状。
[0067]
图4示出了从与背面10r对置的视点观察的图案区域10a的一部分中的平面构造。
[0068]
如图4所示，各掩模孔10h具有在背面10r开口的小开口hs。从与背面10r对置的视点观察，小开口hs具有大致正方形状。小开口hs比中央开口hc大。在掩模孔10h中，沿着与背面10r平行的面的截面积其沿着从小开口hs向中央开口hc的方向逐渐地变小。在掩模孔10h中，小开口hs至中央开口hc的部分从与背面10r对置的视点观察，具有倒锥台状。小开口hs至中央开口hc的部分是掩模孔10h所具备的小孔。
[0069]
上述的蒸镀掩模10满足以下的条件1。
[0070]
(条件1)在表面10f中彼此相邻的大开口hl的边界处的、以jis b0601：2013为基准的算术平均粗糙度ra为1.35μm以下。
[0071]
用于形成蒸镀掩模10的金属板具有的表面粗糙度通常被设定得充分小以获得金属板与抗蚀剂的紧贴性。另一方面，形成有掩模孔10h之后的金属板的表面粗糙度、即蒸镀掩模10的表面粗糙度，变大了掩模孔10h所具有的阶差的量。而且，由于表面10f中的两个大开口hl间的间隙的距离比背面10r中的两个小开口hs间的间隙的距离短，因此每单位长度的表面10f中的阶差容易比每单位长度的背面10r中的阶差大。换言之，在掩模孔10h的加工前为充分平坦的金属板在加工后，在蒸镀掩模10的表面中与在背面中相比残留变少，在栅格构造10m的表面10f中，与背面10r相比，表面粗糙度变大了作为阶差的要因的掩模孔10h的区域拓宽的量。关于这一点，只要在表面粗糙度较大的栅格构造10m的表面10f中，算术平均粗糙度ra为1.35μm以下，则能够在栅格构造10m的表面10f以及背面10r这两方抑制纤维的附着。
[0072]
另外，也可以是，蒸鍍掩模10中，表面10f中相互相邻的1组大开口的边界在两组以上相连的范围中的以jis b 0601：2013为基准的算数平均粗糙度ra为1.35μm以下。
[0073]
另外，条件1中的算术平均粗糙度ra是在将λs轮廓曲线滤波器中的截断值(cut off)设定为2.5μm，将λc轮廓曲线滤波器中的截断值设定为250μm的情况下得到的轮廓曲线即粗糙度曲线的算术平均粗糙度。
[0074]
此外，蒸镀掩模10满足以下的条件2。
[0075]
(条件2)大开口hl的边界中的、以jis b 0601：2013为基准的最大高度rz为6.8μm以下。
[0076]
粗糙度曲线的最大高度rz是最大峰高rp与最大谷深rv之和。因此，最大高度rz越大，蒸镀掩模10的表面10f越容易具有将形成无尘纸的纤维挂住的峰部，此外，越容易具有纤维嵌入的谷部。关于这一点，若最大高度rz为6.8μm以下，则位于蒸镀掩模10的表面10f的峰部具有不易挂住纤维的高度，并且谷部具有纤维不易嵌入的深度。
[0077]
另外，条件2中的最大高度rz与条件1同样，是在将λs轮廓曲线滤波器中的截断值设定为2.5μm，将λc轮廓曲线滤波器中的截断值设定为250μm的情况下得到的轮廓曲线即粗糙度曲线的最大高度。
[0078]
此外，更优选的是蒸镀掩模10满足以下的条件3。
[0079]
(条件3)位于栅格构造10m的栅格点的顶部为平面。
[0080]
在蒸镀掩模10中，位于大开口hl的对角方向上的大开口hl之间不被蚀刻而残留，由此顶部为平面，因此纤维更难以附着。
[0081]
图5示出了沿着与蒸镀掩模10的表面10f正交的剖面的蒸镀掩模10的构造。
[0082]
如图5所示，各掩模孔10h具备大孔10hl与小孔10hs。大孔10hl具有从表面10f朝向背面10r前端变窄的形状。小孔10hs具有从背面10r朝向表面10f前端变窄的形状。大孔10hl与小孔10hs的连接部是中央开口hc。各大孔10hl在大开口hl中，与相邻的其他大孔10hl相接。
[0083]
图6示意性地示出蒸镀掩模10的表面10f的一部分中的高度分布。在图6中，为了方便说明表面10f的高度分布，对高度分布所包含的高低差进行了夸张。
[0084]
图6所示的高度分布是沿着将图3中的点a1与点a4连结的直线la的高度分布。另
外，图6所示的虚线示出在表面10f中被作为高度分布的分析对象的区域中的平均高度。在直线la上除了点a1与点a4之外还包含点a2以及点a3。从与蒸镀掩模10的表面10f对置的视点观察，各点a1、a2、a3、a4被四个大开口hl包围。
[0085]
如图6所示，直线la中的高度分布在各点a1、a2、a3、a4中具有极大值。另一方面，直线la中的高度分布在与彼此相邻的两个点的距离大致相等的位置，具有极小值。蒸镀掩模10通过蒸镀掩模用基材的湿式蚀刻而制造。此时，各点a1、a2、a3、a4所处的部分，是与表面10f对置的俯视时距大开口hl的中心的距离较大因此在蒸镀掩模用基材之中最难以蚀刻的部分。因此，在各点a1、a2、a3、a4中高度最高。与此相对，位于彼此相邻的点之间的部分，是两个大开口hl彼此相接的部分因此是最容易蚀刻的部分。因此，在距彼此相邻的两个点的距离大致相等的位置，高度最低。
[0086]
[蒸镀掩模用基材的制造方法]
[0087]
参照图7以及图8，对蒸镀掩模10的制造所使用的蒸镀掩模用基材的制造方法进行说明。另外，以下，分别例示出使用了轧制的制造方法、以及使用了电解的制造方法。首先，对使用了轧制的制造方法进行说明，接着，对使用了电解的制造方法进行说明。图7以及图8示出使用了轧制的制造方法。
[0088]
如图7所示，在使用了轧制的制造方法中，首先，准备由因瓦合金等铁镍类合金形成的母材1a，母材1a沿长度方向dl延伸。接着，以母材1a的长度方向dl与输送母材1a的输送方向平行的方式，向轧制装置50输送母材1a。轧制装置50例如具备一对轧制辊51、52，通过一对轧制辊51、52将母材1a轧制。由此，通过使母材1a沿长度方向dl伸长，从而形成轧材1b。通过切断宽度方向上的轧材1b的两端，从而调整宽度方向dw上的轧材1b的尺寸。轧材1b例如既可以在卷绕于芯c的状态下被处理，也可以在伸长为带形状的状态下被处理。轧材1b的厚度例如为10μm以上且50μm以下。另外，也能够使用多对轧制辊将母材1a轧制。在图7中例示出使用一对轧制辊51、52将母材1a轧制的方法。
[0089]
接着，如图8所示，向退火装置53输送轧材1b。退火装置53边将轧材1b向长度方向dl拉动边进行加热。由此，在轧材1b中累积的残留应力被从轧材1b的内部去除，形成蒸镀掩模用基材1。另外，轧材1b也可以在退火后被切断，从而调整宽度方向dw上的尺寸。
[0090]
在使用了电解的制造方法中，在用于电解的电极的表面形成蒸镀掩模用基材1，之后，将蒸镀掩模用基材1从表面脱模。此时，例如以镜面为表面的电解滚筒电极被浸渍于电解池中，并且使用与电解滚筒电极的表面对置的其他电极。然后，通过在电解滚筒电极与其他电极之间流过电流，从而蒸镀掩模用基材1沉积于电解滚筒电极的表面。在通过电解滚筒电极的旋转而蒸镀掩模用基材1具有希望的厚度的定时，从电解滚筒电极的表面剥离蒸镀掩模用基材1，并卷绕被剥离后的蒸镀掩模用基材1。另外，在使用了电解的制造方法中，也可以通过对由电解获得的金属箔进行退火，来制造蒸镀掩模用基材1。
[0091]
在形成蒸镀掩模用基材1的材料为因瓦合金的情况下，用于电解的电解池包含铁离子供给剂、镍离子供给剂以及ph缓冲剂。电解池也可以包含应力缓和剂、fe
3+
离子掩蔽剂以及络合剂等。电解池为弱酸性的溶液，电解池所具有的ph被调整为适合电解的ph。铁离子供给剂例如为七水合硫酸亚铁、氯化亚铁以及氨基磺酸铁等。镍离子供给剂例如为硫酸镍(ii)、氯化镍(ii)、氨基磺酸镍以及溴化镍等。ph缓冲剂例如为硼酸以及丙二酸。丙二酸也作为fe
3+
离子掩蔽剂发挥功能。应力缓和剂例如为糖精钠等。络合剂例如为苹果酸以及柠檬
酸等。电解池例如是包含上述添加剂的水溶液。电解池的ph通过ph调整剂被调整为例如ph为2以上且3以下。ph调整剂例如可以为5％硫酸以及碳酸镍等。
[0092]
在电解所使用的条件下，根据蒸镀掩模用基材1的厚度以及蒸镀掩模用基材1的组成比等，适当调整电解池的温度、电流密度以及电解时间。适用于上述电解池中的阳极例如可以是纯铁制的电极以及镍制的电极。适用于上述电解池中的阴极例如可以是不锈钢制的电极，例如可以是sus304制的电极。电解池的温度例如包含在40℃以上且60℃以下的范围内。电流密度例如包含在1a/dm2以上且4a/dm2以下的范围内。
[0093]
另外，由电解形成的蒸镀掩模用基材1、以及由轧制形成的蒸镀掩模用基材1也可以通过化学性的研磨以及电性研磨等，被加工得更薄。化学性的研磨所使用的研磨液例如是以过氧化氢为主要成分的铁类合金用的化学研磨液等。电性研磨所使用的电解液是高氯酸类的电解研磨液以及硫酸类的电解研磨液等。
[0094]
另外，在使用了轧制的制造方法中，具有粒状的金属氧化物大量包含在蒸镀掩模用基材1中。金属氧化物例如为氧化铝以及氧化镁等。在形成上述母材1a时，为了抑制氧混入母材1a中，在原料中混入具有粒状的脱氧剂。脱氧剂由铝以及镁等形成。而且，铝以及镁作为氧化铝以及氧化镁等金属氧化物，大量残留在母材1a中。关于这一点，根据使用电解的制造方法，由于不使用脱氧剂，因此由脱氧剂的氧化形成的金属氧化物不会混入蒸镀掩模用基材1、以及由蒸镀掩模用基材1制造的蒸镀掩模10。
[0095]
[蒸镀掩模的制造方法]
[0096]
参照图9至图14，对蒸镀掩模10的制造方法进行说明。
[0097]
如图9所示，在制造蒸镀掩模10时，首先准备蒸镀掩模用基材1、第一干膜抗蚀剂(dry film resist：dfr)2、以及第二干膜抗蚀剂(dfr)3。蒸镀掩模用基材1包含表面1f与背面1r。dfr 2、3分别与蒸镀掩模用基材1独立地形成。接着，在表面1f上粘贴第一dfr 2，并且在背面1r粘贴第二dfr 3。
[0098]
如图10所示，在第一dfr 2形成第一孔2a，并且在第二dfr 3形成第二孔3a。此时，将dfr 2、3曝光，使曝光后的dfr 2、3显影。在使曝光后的dfr 2、3显影时，作为显影液例如能够使用碳酸钠水溶液。
[0099]
如图11所示，将显影后的第二dfr 3用作掩模，使用氯化铁液对蒸镀掩模用基材1的背面1r进行蚀刻。此时，在表面1f形成表面保护层4，以免表面1f与背面1r同时被蚀刻。形成表面保护层4的材料对氯化铁液具有化学耐性。由此，在背面1r形成朝向表面1f凹陷的小孔10hs。
[0100]
对蒸镀掩模用基材1进行蚀刻的蚀刻液可以是酸性的蚀刻液。在蒸镀掩模用基材1由因瓦合金形成的情况下，蚀刻液只要能够将因瓦合金蚀刻即可。酸性的蚀刻液例如是对高氯酸铁液、或者高氯酸铁液与氯化铁液的混合液混合了高氯酸、盐酸、硫酸、蚁酸以及醋酸的某一个而成的溶液。对蒸镀掩模用基材1进行蚀刻的方法既可以是将蒸镀掩模用基材1浸渍于酸性的蚀刻液的浸蘸式，也可以是向蒸镀掩模用基材1喷吹酸性的蚀刻液的喷吹式。
[0101]
接着，如图12所示，将形成于背面1r的第二dfr 3、以及与第一dfr2相接的表面保护层4去除。此外，为了防止背面1r的进一步蚀刻，而在背面1r形成背面保护层5。形成背面保护层5的材料对氯化铁液具有化学耐性。
[0102]
接下来，如图13所示，将显影后的第一dfr 2作为掩模，使用氯化铁液对表面1f进
行蚀刻。由此，形成从表面1f朝向背面1r凹陷的大孔10hl。此时使用的蚀刻液为酸性的蚀刻液。在蒸镀掩模用基材1由因瓦合金形成的情况下，蚀刻液只要能够将因瓦合金蚀刻即可。对蒸镀掩模用基材1进行蚀刻的方法既可以是上述的浸蘸式，也可以是喷吹式。
[0103]
接着，如图14所示，将背面保护层5与第一dfr 2从蒸镀掩模用基材1去除。由此，可得到形成有多个小孔10hs和与各小孔10hs相连的大孔10hl的蒸镀掩模10。另外，蒸镀掩模用基材1的表面1f对应于蒸镀掩模10的表面10f，并且蒸镀掩模用基材1的背面1r对应于蒸镀掩模10的背面10r。
[0104]
[实施例]
[0105]
[实施例1]
[0106]
参照图15对实施例以及比较例进行说明。
[0107]
[蒸镀掩模]
[0108]
准备具有25μm的厚度的因瓦合金板。然后，按照记载的顺序进行使用了抗蚀剂掩模的背面的湿式蚀刻以及使用了抗蚀剂掩模的表面的湿式蚀刻。由此，形成了参照图3至图6前文说明过的蒸镀掩模，该蒸镀掩模的宽度方向的长度为70mm，长度方向的长度为1250mm，并且具有沿长度方向排列的三个图案区域。
[0109]
此时，形成了具备在长度方向以及宽度方向上具有70μm的长度的大开口、以及在长度方向dl以及宽度方向dw上具有40μm的长度并且以70μm的间距排列的小开口的掩模孔。制作了19张这样的蒸镀掩模。对各蒸镀掩模测定了算术平均粗糙度ra、以及最大高度rz。
[0110]
[测定方法]
[0111]
对于各蒸镀掩模中的位于长度方向的中央的图案区域，使用3d测量激光显微镜(ols5000，奥林巴斯公司制造)，测定了以jis b 0601：2013为基准的算术平均粗糙度ra、以及以该标准为基准的粗糙度曲线的最大高度rz。此时，将λs轮廓曲线中的截断值设定为2.5μm，将λc轮廓曲线滤波器中的截断值设定为250μm。此外，对于各图案区域，在任意的三处位置设定了参照图3前文说明过的直线la。此时，在宽度方向dw上，将朝向相对于点a1的与点a2相反的一侧、且从点a1离开了5μm的位置设为起点，将从起点朝向点a1的方向上从起点离开了490μm即七个间距的位置起再离开5μm的位置设为终点。由此，将沿着宽度方向dw的500μm的长度设为测定的对象。而且，将三个测定值中的平均值设定为各图案区域中的算术平均粗糙度ra、粗糙度曲线的最大高度rz。
[0112]
[评价方法]
[0113]
在通过两张无尘纸夹住各蒸镀掩模的状态下，将蒸镀掩模以及无尘纸的层叠体收容于塑料壳体。而且，将塑料壳体载置于振动试验机，对塑料壳体施加了垂直方向的振动。此时，在以jis z 0232：2004的“包装货物-振动试验方法”的随机振动试验为基准的方法中，对蒸镀掩模施加了持续90分钟的振动。接着，将蒸镀掩模从塑料壳体取出，通过光学显微镜对位于长度方向的中央的图案区域中的形成有多个大开口的表面进行观察。由此，在彼此不同的25个区域中，对纤维进行了计数。此时，将一个区域的大小设定为能够确认纤维的大小即700nm
×
1000nm。而且，将存在于各区域的纤维的总和超过10根的情况下的评价设定为
“×”
，将纤维的总和为10根以下的情况下的评价设定为
“○”
。
[0114]
[测定结果以及评价结果]
[0115]
测定结果以及评价结果如图15所示。
[0116]
即，如图15所示，确认了比较例1-1的评价结果为
“×”
，实施例1-1至实施例1-18的评价结果为
“○”
。评价结果为
“×”
的比较例1-1的算术平均粗糙度ra为3.22μm，确认超过了1.35μm。与此相对，确认了评价结果为
“○”
的实施例1-1至实施例1-18中的算术平均粗糙度ra最大为1.35μm。根据这样的结果，可以说通过使栅格构造的表面中的算术平均粗糙度ra为1.35μm以下，能够抑制来自于无尘纸的纤维向蒸镀掩模的附着。
[0117]
此外，确认了实施例1-1至实施例1-18中的粗糙度曲线的最大高度rz最大为6.79μm。与此相对，比较例1-1中的粗糙度曲线的最大高度rz为11.76μm，确认超过了6.8μm。根据这样的结果，可以说通过使栅格构造的表面中的粗糙度曲线的最大高度rz为6.8μm以下，能够抑制来自于无尘纸的纤维向蒸镀掩模的附着。
[0118]
如以上说明那样，根据蒸镀掩模的第一实施方式，能够获得以下所记载的效果。
[0119]
(1)只要在表面粗糙度较大的栅格构造10m的表面10f中，算术平均粗糙度ra为1.35μm以下，则能够在栅格构造10m的表面10f以及背面10r双方抑制纤维的附着。此外，由于最大高度rz为6.8μm以下，因此可使位于蒸镀掩模10的表面10f的峰部具有难以挂住纤维的高度，并且谷部具有纤维难以嵌入的深度。
[0120]
(2)位于大开口hl的对角方向的大开口hl之间不被蚀刻而残留，从而顶部为平面，因此纤维更难以附着。
[0121]
另外，上述的第一实施方式能够如以下那样变更地实施。
[0122]
[栅格构造]
[0123]
·
栅格构造10m的顶部也可以不是平面。例如栅格构造10m的顶部也可以是凸面。这样的凸面在用于形成大开口hl的湿式蚀刻中，通过将被四个大开口hl包围的区域湿式蚀刻而形成。在该情况下，只要在表面10f中彼此相邻的大开口hl的边界处的以jis b 0601：2013为基准的算术平均粗糙度ra为1.35μm以下，则也能够获得上述(1)的效果。
[0124]
·
表面10f也可以不具备位于栅格构造10m的栅格线的凹陷、以及位于栅格点的顶部。即，在栅格构造10m中，栅格线与栅格点也可以位于同一平面上。在该情况下，只要在表面10f中彼此相邻的大开口hl的边界处的以jis b 0601：2013为基准的算术平均粗糙度ra为1.35μm以下，则也能够获得上述(1)的效果。
[0125]
[大开口]
[0126]
·
从与表面10f对置的视点观察，各大开口hl也可以与其他大开口hl分离。在该情况下，在表面10f中，位于大开口hl之间的部分不被蚀刻而残留。由此，从与表面10f对置的视点观察，相比于各大开口hl与其他大开口hl相接的情况，表面10f会包含更多的平面，因此纤维更难以附着于表面10f。
[0127]
[掩模孔的形状]
[0128]
·
大开口hl的缘部、中央开口hc的缘部、以及小开口hs的缘部也可以分别具有大致正方形状以外的形状。例如，各缘部也可以具有长方形状，或也可以具有四边形状以外的多边形状。此外，例如各缘部也可以具有圆形状。
[0129]
[第二实施方式]
[0130]
参照图16至图20对蒸镀掩模的第二实施方式进行说明。在第二实施方式的蒸镀掩模中，与第一实施方式的蒸镀掩模相比，蒸镀掩模所具有的掩模孔的形状不同。因此以下，在第二实施方式中详细说明与第一实施方式的不同点，另一方面，在第二实施方式中，对于
与第一实施方式共通的构成，标注与在第一实施方式中使用的附图标记相同的附图标记，并省略该构成的详细说明。此外，以下，依次说明蒸镀掩模以及实施例。
[0131]
[蒸镀掩模]
[0132]
参照图16至图19对蒸镀掩模进行说明。
[0133]
图16示出了从与表面10f对置的视点观察到的图案区域10a的一部分的平面构造。
[0134]
如图16所示，栅格构造20m具备在表面10f中线宽度较宽的第一栅格线20m1、以及在表面10f中线宽度较窄的第二栅格线20m2。在表面10f中，第一栅格线20m1与第二栅格线20m2构成彼此相邻的大开口hl之间的边界。
[0135]
本实施方式的蒸镀掩模10除了上述的条件1之外，优选的是还满足以下的条件4。
[0136]
(条件4)第一栅格线20m1处的以jis b 0601：2013为基准的算术平均粗糙度ra比第二栅格线20m2处的以jis b 0601：2013为基准的算术平均粗糙度ra小。
[0137]
与第二栅格线20m2相比，与无尘纸的接触面积较大的第一栅格线20m1的算术平均粗糙度ra比第二栅格线20m2的算术平均粗糙度ra小，因此在蒸镀掩模10与无尘纸之间产生摩擦时，能够抑制来自于无尘纸的纤维向蒸镀掩模10附着。另外，蒸鍍掩模10也可以在表面10f中相互相邻的1组大开口的边界相连2组以上的范围内满足条件4。
[0138]
本实施方式的蒸镀掩模10优选的是还满足以下的条件5。
[0139]
(条件5)在表面10f中，第一栅格线20m1处的以jis b 0601：2013为基准的算术平均粗糙度ra为0.14μm以下，第二栅格线20m2处的以jis b 0601：2013为基准的算术平均粗糙度ra为1.3μm以下。
[0140]
通过蒸镀掩模10满足条件5，从而使来自于无尘纸的纤维向蒸镀掩模10的附着得到进一步抑制。
[0141]
另外，条件4以及条件5中的算术平均粗糙度ra是在将λs轮廓曲线滤波器中的截断值设定为2.5μm、将λc轮廓曲线滤波器中的截断值设定为80μm的情况下得到的轮廓曲线即粗糙度曲线的算术平均粗糙度。
[0142]
各掩模孔20h与上述的第一实施方式的掩模孔10h同样，具备大开口hl以及中央开口hc。在掩模孔20h中，沿着与表面10f平行的面的截面积其沿从大开口hl朝向中央开口hc的方向逐渐地变小。在掩模孔20h中，从大开口hl至中央开口hc的部分从与表面10f对置的视点观察，具有倒锥台状。
[0143]
在本实施方式中，各大开口hl的缘部具有菱形状。在大开口hl的缘部中，在长度方向dl上彼此相邻的两个角部具有曲率中心位于大开口hl的内部那样的曲率。此外，在大开口hl的缘部中，在宽度方向dw上彼此相邻的两个角部具有曲率中心位于大开口hl的内部那样的曲率。在大开口hl的缘部中，在长度方向dl上彼此相邻的一对角部中的曲率半径，比在宽度方向dw上彼此相邻的一对角部中的曲率半径大。与此相对，各中央开口hc的缘部具有大致正方形状。
[0144]
第一栅格线20m1以及第二栅格线20m2分别包含表面10f的一部分。在栅格构造20m中，在一个第一栅格线20m1中的各端部，分别连接两个第二栅格线20m2。与此相对，在一个第二栅格线20m2的各端部，分别连接一个第一栅格线20m1。
[0145]
从与表面10f对置的视点观察，在宽度方向dw上第一栅格线20m1与大开口hl交替地排列，在与宽度方向dw交叉的方向上，第二栅格线20m2与大开口hl交替地排列。
[0146]
另外，在蒸镀掩模10的表面10f上，作为测定蒸镀掩模10的高度分布的对象而设定沿着蒸镀掩模10的宽度方向dw的直线lb、以及沿与长度方向dl交叉的方向延伸的直线lc。直线lb位于栅格构造20m所包含的一个第一栅格线20m1上。直线lb是连结点b1与点b2的直线。从点b1朝向点b2的方向是直线lb延伸的第一方向db。直线lc位于栅格构造20m所包含的一个第二栅格线20m2上。直线lc是连结点c1与点c2的直线。从点c1朝向点c2的方向是直线lc延伸的第二方向dc。
[0147]
图17示出了从与背面10r对置的视点观察到的图案区域10a的一部分的平面构造。
[0148]
如图17所示，各掩模孔20h具有在背面10r开口的小开口hs。从与背面10r对置的视点观察，小开口hs具有大致正方形状。在掩模孔20h中，沿着与背面10r平行的面的截面积其沿从小开口hs朝向中央开口hc的方向逐渐地变小。在掩模孔20h中，从小开口hs至中央开口hc的部分在从与背面10r对置的视点观察时，具有倒锥台状。
[0149]
图18示出了在蒸镀掩模10的表面10f中，沿着第一栅格线20m1的蒸镀掩模10的高度分布。图19示出了在蒸镀掩模10的表面10f中，沿着第二栅格线20m2的蒸镀掩模10的高度分布。在图18以及图19中，为了方便说明表面10f的高度分布，对高度分布所包含的高低差进行了夸张。另外，图18以及图19所示的虚线，示出了在表面10f中作为高度分布的分析对象的区域中的平均高度。
[0150]
图18所示的高度分布是沿着连结图16中的点b1与点b2的直线lb的高度分布。直线lb位于栅格构造10m所包含的一个第一栅格线20m1上。从与蒸镀掩模10的表面10f对置的视点观察，各点b1、b2被三个大开口hl包围。各点b1、b2位于被各大开口hl所具有的角部包围的区域。该区域在蒸镀掩模用基材的湿式蚀刻时，是蚀刻液不易流入的区域。另一方面，位于点b1与点b2之间的区域是被两个大开口hl夹住的区域。因此，该区域与点b1及点b2所处的区域相比，在蒸镀掩模用基材的湿式蚀刻时，是蚀刻液容易流入的区域。
[0151]
因此，如图18所示，直线lb中的高度分布在各点b1、b2具有极大值。另一方面，直线lb中的高度分布在与点b1及点b2的距离大致相等的位置具有极小值。
[0152]
图19所示的高度分布是沿着连结图16中的点c1与点c2的直线lc的高度分布。从与蒸镀掩模10的表面10f对置的视点观察，各点c1、c2被三个大开口hl包围。各点c1、c2位于被各大开口hl所具有的角部包围的区域。该区域在蒸镀掩模用基材的湿式蚀刻时，是蚀刻液不易流入的区域。另一方面，位于点c1与点c2之间的区域是被两个大开口hl夹住的区域。因此，该区域与点c1及点c2所处的区域相比，在蒸镀掩模用基材的湿式蚀刻时，是蚀刻液容易流入的区域。
[0153]
因此，如图19所示，直线lc中的高度分布在各点c1、c2具有极大值。另一方面，直线lc中的高度分布在与点c1和点c2的距离大致相等位置中具有极小值。另外，各点c1、c2的高度比各点b1、b2的高度高。
[0154]
[实施例]
[0155]
[实施例2]
[0156]
参照图20对实施例以及比较例进行说明。
[0157]
[蒸镀掩模]
[0158]
准备具有25μm的厚度的因瓦合金板。而且，按照记载的顺序进行使用了抗蚀剂掩模的背面的湿式蚀刻以及使用了抗蚀剂掩模的表面的湿式蚀刻。由此，形成了参照图16至
图19前文说明过的蒸镀掩模，该蒸镀掩模的宽度方向的长度为70mm，长度方向的长度为1250mm，并且具有沿长度方向排列的三个图案区域。
[0159]
此时，以多个掩模孔呈交错排列来排列的方式形成了多个掩模孔。此外，将在宽度方向以及长度方向上具有40μm的长度的小开口，以长度方向上的间距为85μm并且宽度方向上的间距为100μm的方式排列而形成掩模孔。此外，将在长度方向上具有75μm的长度并且在宽度方向上具有70μm的长度的菱形状的大开口，以长度方向上的间距为85μm并且宽度方向上的间距为100μm的方式排列而形成掩模孔。制作了17张这样的蒸镀掩模。在各蒸镀掩模中，分别对第一栅格线以及第二栅格线，测定了算术平均粗糙度ra、以及最大高度rz。
[0160]
[测定方法]
[0161]
对于各蒸镀掩模中的位于长度方向上的中央的图案区域，使用3d测量激光显微镜(ols5000、奥林巴斯公司制造)，测定了以jis b 0601：2013为基准的算术平均粗糙度ra、以及以该标准为基准的粗糙度曲线的最大高度rz。此时，将λs轮廓曲线上的截断值设定为2.5μm，将λc轮廓曲线滤波器中的截断值设定为80μm。此外，对于各图案区域的第一栅格线，在三处位置对33μm以上且48μm以下的范围中包含的某一长度进行了测定，将其平均值设定为第一栅格线上的测定结果。对于各图案区域的第二栅格线，在三处位置对60μm以上且68μm以下的范围中包含的某一长度进行了测定，将其平均值设定为第二栅格线上的测定结果。另外，在以下参照的图20中，将测定位置为第一栅格线的情况记载为“lb”，将测定位置为第二栅格线的情况记载为“lc”。
[0162]
[评价方法]
[0163]
在通过两张无尘纸夹住各蒸镀掩模的状态下，将蒸镀掩模以及无尘纸的层叠体收容于塑料壳体。而且，将塑料壳体载置于振动试验机，对塑料壳体施加了垂直方向的振动。此时，在以jis z 0232：2004的“包装货物-振动试验方法”的随机振动试验为基准的方法中，对蒸镀掩模施加了持续90分钟的振动。接着，将蒸镀掩模从塑料壳体取出，通过光学显微镜对位于长度方向的中央的图案区域中的形成有多个大开口的表面进行观察。由此，在彼此不同的25个区域中，对纤维进行了计数。此时，将一个区域的大小设定为能够确认纤维的大小即700nm
×
1000nm。而且，将存在于各区域的纤维的总和超过10根的情况下的评价设定为
“×”
，将纤维的总和为10根以下的情况下的评价设定为
“○”
。
[0164]
[测定结果以及评价结果]
[0165]
测定结果以及评价结果如图20所示。
[0166]
即，如图20所示，确认了比较例2-1的评价结果为
“×”
，实施例2-1至实施例2-16的评价结果为
“○”
。在评价结果为
“×”
的比较例2-1中，确认了第一栅格线的算术平均粗糙度ra为2.32μm，第二栅格线的算术平均粗糙度ra为2.11μm。即，确认了在第一栅格线以及第二栅格线双方中，算术平均粗糙度ra超过了1.35μm。与此相对，确认了在评价结果为
“○”
的实施例2-1至实施例2-16的算术平均粗糙度ra在第一栅格线以及第二栅格线双方中最大为1.27μm。根据这样的结果，可以说通过使栅格构造的表面中的算术平均粗糙度ra为1.35μm以下，能够抑制来自于无尘纸的纤维滞留在蒸镀掩模上。
[0167]
此外，确认了实施例2-1至实施例2-16中的粗糙度曲线的最大高度rz最大为1.61μm。与此相对，确认了比较例2-1中的粗糙度曲线的最大高度rz最小为7.89μm，超过了6.8μm。根据这样的结果，可以说通过使栅格构造的表面中的粗糙度曲线的最大高度rz为6.8μm以
下，能够抑制来自于无尘纸的纤维向蒸镀掩模附着。
[0168]
如以上说明那样，根据蒸镀掩模的第二实施方式，能够获得以下所记载的效果。
[0169]
(3)与第二栅格线20m2相比与无尘纸的接触面积较大的第一栅格线20m1的算术平均粗糙度ra，比第二栅格线20m2的算术平均粗糙度ra小，因此在蒸镀掩模10与无尘纸之间产生摩擦时，能够抑制来自于无尘纸的纤维向蒸镀掩模10的附着。
[0170]
另外，上述的第二实施方式能够如以下那样变更来实施。
[0171]
[栅格构造]
[0172]
·
栅格构造10m的顶部也可以不是平面。例如栅格构造10m的顶部也可以是向与背面10r相反的一侧突出的凸面。在该情况下，只要在表面10f中彼此相邻的大开口hl的边界处的以jis b 0601：2013为基准的算术平均粗糙度ra为1.35μm以下，则也能够获得上述(1)的效果。
[0173]
·
第一栅格线20m1的算术平均粗糙度ra也可以为第二栅格线20m2的算术平均粗糙度ra以上。在该情况下，只要在表面10f中彼此相邻的大开口hl的边界处的以jis b 0601：2013为基准的算术平均粗糙度ra为1.35μm以下，则也能够获得上述(1)的效果。
[0174]
[掩模孔的形状]
[0175]
·
大开口hl的缘部也可以具有菱形状以外的形状。大开口hl的缘部既可以具有菱形以外的多边形状，也可以具有圆形状。此外，中央开口hc的缘部以及小开口hs的缘部也可以具有大致正方形状以外的形状。各缘部既可以具有长方形状，也可以具有四边形状以外的多边形状。此外，例如各缘部也可以具有圆形状。

技术特征：

1.一种蒸镀掩模，为金属制的蒸镀掩模，所述蒸镀掩模具备栅格构造，该栅格构造具备表面与背面，且具有划分出多个掩模孔的二维的网眼状，该多个掩模孔将位于所述表面的大开口与位于所述背面的小开口连接，在所述表面中，彼此相邻的大开口的边界处的以jis b 0601：2013为基准的算术平均粗糙度ra为1.35μm以下，所述边界处的以jis b 0601：2013为基准的最大高度rz为6.8μm以下。2.如权利要求1所述的蒸镀掩模，所述表面具备：凹陷，位于所述栅格构造的栅格线；以及顶部，位于所述栅格构造的栅格点，所述顶部是所述凹陷彼此被连接的部分，所述凹陷与所述顶部构成所述边界。3.如权利要求2所述的蒸镀掩模，所述顶部为平面。4.如权利要求1所述的蒸镀掩模，所述栅格构造具备在所述表面中线宽度较宽的第一栅格线、以及在所述表面中线宽度较窄的第二栅格线，所述第一栅格线与所述第二栅格线构成所述边界，所述表面中的所述第一栅格线处的以jis b 0601：2013为基准的算术平均粗糙度ra，比所述表面中的所述第二栅格线处的以jis b 0601：2013为基准的算术平均粗糙度ra小。

技术总结

提供能够抑制纤维向蒸镀掩模附着的蒸镀掩模。本发明的蒸镀掩模为金属制的蒸镀掩模(10)。具备栅格构造(10M)，该栅格构造(10M)具备表面(10F)以及背面，且具有划分多个掩模孔(10H)的二维的网眼状，该多个掩模孔将位于表面(10F)的大开口(HL)与位于背面的小开口连接。在表面(10F)中，彼此相邻的大开口(HL)的边界处的以JIS B 0601：2013为基准的算术平均粗糙度Ra为1.35μm以下，边界处的以JIS B 0601：2013为基准的最大高度Rz为6.8μm以下。2013为基准的最大高度Rz为6.8μm以下。2013为基准的最大高度Rz为6.8μm以下。