透射电镜实验报告
首先获得样品的悬浊液（薄膜要用刀片从衬底上刮除后，用乙醇浸润），样品必须是分散剂而不能是溶剂。铜网直径为3mm，有三个部分所组成：一是物理支撑，上有几um直径的网孔；二是有机膜，防止样品从网孔掉落；三是石墨层，用来消除样品的静电积累和导热。铜网的正面喷有石墨，比较光滑，背面有铜的颜，凹凸不平，铜网上不能有肉眼能看到的杂质。夹铜网时，用尖镊的尖端慢慢挑起铜网的一端，而后夹紧，切勿用力过猛而损坏铜网，将铜网正面向上放在滤纸上，用镊子缠一小段脱脂棉成圆锥状，夹住脱脂棉的另一端，蘸取少量样品悬浊液，轻轻涂在铜网上。从侧面观察，乙醇溶剂会有小鼓包。如果样品过浓，应重新制样或涂样时快速地涂在铜网上。水溶剂干的比较慢，不会干燥的有机溶剂则不能测，乙醇制备的样品2缀花草坪
、3分钟后就会自然干燥，然后铜网可放入样品架。 2、仪器组成：
灯丝
聚光镜光栏：聚光、整流
吸湿剂物镜
极靴：强力约束磁场的形状，由于极靴和样品架的间隙很小，故进样时应加倍小心。
物镜光栏：限定景深，消除杂散光（样品对电子束的散射形成）
CCD探测器;侧插式（分辨率相对较低，靠近光束线）
3、仪器启动
加速电压为超高压，需要精确稳定，高压始终开着为100KV，7650破碎机刀具的最高压为120KV。
打开灯丝电压，20V，稳定后灯丝电流为14uA。目前所用的灯丝为钨丝，寿命为200—400h,是发卡式灯丝，或者也可以采用LaB6单晶。
加遮光板偏压，843V。因电子打在样品上会产生一定剂量的X射线，可能对人体有害，故在换样时应将偏压切断，此时加反向偏压，抑制灯丝电流。
4、观察拍照
按RESET键，重置所有参数，归零。调节亮度，使光斑扩散至整个观察窗。按下WOB—辅助聚焦按钮，调节Z轴使物平面和电子束聚焦平面重合，此时观察窗中的图像不再抖动。调节X,Y轴，将欲观察的区域移到观察窗中心，调节放大倍数按钮至合适的倍数。将亮度打暗至肉眼稍稍能看清为止，在软件窗口点击动态观察按钮，点击自动查看曝光时间，如果时间小于250ms，应立即点击拍照键，退出摄像头，将亮度调亮后重新动态观察，曝光后调整图像的亮度（红线）和对比度（蓝线）。 电子聚焦调节有三种情况：
欠焦状态，出现白边条纹，即菲涅耳条纹，每一个物质点艾里斑的一级衍射极大。
过焦状态：中间白条纹，外边还包裹黑条纹，为艾里斑的一级衍射极小，中间的白为一级衍射极大。过焦状态不允许出现，很像包裹体。
正焦状态：只出现在很小的一段调节范围内，既不欠焦，也不过焦。
调节电子聚焦旋钮，使图像略微欠焦，按下拍照键，一张TEM预埋槽道图采集完毕。
5、切换样品
点击HOLDER，选择1/2/3样，换样时要回到1样，十字叉丝重合，点击偏压OFF。
打开样品架时，用镊子从滑孔轻轻滑入，用镊子的前后两端护住，防止弹簧弹动幅度过大。放入样品时，样品编号从尖端往里依次为1，2，3。关闭夹子时，用镊子护住至接近关闭，抽出镊子。最后用洗耳球使劲吹，时样品保持清洁。
进样时，一只手托着样品架，另一只手握着把手将样品杆水平地送入电镜中。当定位銷对准凹槽时，用掌心推入，直到听到阀门声响，红灯亮起，把真空系统开关拨到真空档。待绿灯亮起，用手握住把手，顺时针转动，直到感觉有大气压力将样品杆往里推,到下一个平台时稍用力逆时针旋转，大气压力继续把样品杆往里压到底。
出样时，用大拇指顶住镜筒壁，用力轻轻往外拔，直到不能再往外拔为止，大概一个大拇指指节的距离，顺时针旋转一点，大拇指继续发力，直到不能再往外拔，此时大拇指与手掌垂直。再逆时针转动，待听到阀门声后继续转一点，用手虚顶着把手，打开充气开关，让大气进入过渡室。进气完成后，缓缓抽出样品杆。
6、像散的调节
像散形成的原因：样品周围电磁场的不均匀性，主要由于极靴的污染和极靴的控制电流不均衡。物镜光栏在样品的附近，它的污染会造成额外的磁场，也可能形成像散。样品本身荷电也是原因之一。
聚光镜像散：能量在空间上的分布不均匀，由椭圆形调成圆形
物镜像散：相干波振幅的不均匀性，影响清晰度。
调整像散时，如果有物镜光栏，图像清晰时会造成仪器不正，需要的是绝对校正，而非相对校正。故调节聚光镜像散和物镜像散时均需将物镜光栏取出。
CS—cnc真空吸盘聚光镜像散调节（八极杆调控），由椭圆形光斑调整为圆形光斑，调节完毕后放大查看。
OS—物镜像散调节（八极杆调控），在动态观察下，按下OS键，先调聚焦，调至无明显的纵横像散（正焦状态），先调左边的像散调节旋钮，至图像最清晰处，再调节右旋钮，
至图像最清晰处，最后调整聚焦旋钮，观察有无明显像散。如果有，再重新调像散，，无明显像散则调整完成，可以直接拍照。退出时按BH。
一般在高倍数（20万倍以上）观察时才需要调节像散。
7、图像分析
从上图可知，样品是一些不均匀分布的棍状晶体
石笼护坡样品有团聚现象，这些棍状晶体的直径大部分在10—30nm之间
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