CN201510448787.2，635纳米的窄带滤光片及其制作方法，本发明公开一种635纳米的窄带滤光片及其制作方法，其特征为以玻璃为基板，表面光洁度优于60/40，镀膜的材料选择SiO2和TiO2，基板两个表面上分别沉积多层薄膜，第一膜系为多个沉积的SiO2层和TiO2层交替而成，共计24层；第二膜系也是为多个沉积的SiO2层和TiO2层交替而成，共计68层。本发明提供成本低、特性良好、截止区域内截止深度小于3OD，透过率大于90%，具有良好信噪比，满足高精度的激光测距仪的苛刻需要。

CN201510448787.2，635纳米的窄带滤光片及其制作方法，本发明公开一种635纳米的窄带滤光片及其制作方法，其特征为以玻璃为基板，表面光洁度优于60/40，镀膜的材料选择SiO2和TiO2，基板两个表面上分别沉积多层薄膜，第一膜系为多个沉积的SiO2层和TiO2层交替而成，共计24层；第二膜系也是为多个沉积的SiO2层和TiO2层交替而成，共计68层。本发明提供成本低、特性良好、截止区域内截止深度小于3OD，透过率大于90%，具有良好信噪比，满足高精度的激光测距仪的苛刻需要。