電漿源原理與應用之介紹文/張家豪，魏鴻文，翁政輝，柳克強李安平，寇崇善吳敏文，曾錦清，蔡文發，鄭國川摘要電漿科技已廣泛應用於科學研究及工業製程，成為現代科技的重要指標。本文將介紹國內在電漿源方面的研發，其中包括電感式電漿源，微波表面波電漿源,大氣電漿源，電漿浸沒離子佈植及電漿火炬等等。文中將簡介各式電漿源之基本物理及其應用發展。1. 前言等额选举電漿已廣泛應用於各種領域，如在半導體積體電路製造方面

銦錫氧化物導電薄膜RF濺鍍法製備及鑑定1. 目的 以RF濺鍍法(Radio Frequency Sputtering Deposition)製備銦錫氧化物導電薄膜，並對其進行鑑定。2. 原理 自從1968年荷蘭Philips公司之Boort和Groth在銦化物表面上噴灑氯化錫液體，而得到 3 × 10-4Ω．㎝以之低電阻係數的透明導電薄膜後，ITO薄膜之研究就一直被熱烈的討論著。ITO，銦錫氧化物

電漿源原理與應用之介紹文/張家豪，魏鴻文，翁政輝，柳克強李安平，寇崇善吳敏文，曾錦清，蔡文發，鄭國川摘要電漿科技已廣泛應用於科學研究及工業製程，成為現代科技的重要指標。本文將介紹國內在電漿源方面的研發，其中包括電感式電漿源，微波表面波電漿源,大氣電漿源，電漿浸沒離子佈植及電漿火炬等等。文中將簡介各式電漿源之基本物理及其應用發展。can总线busoff1. 前言電漿已廣泛應用於各種領域，如在半導體積