以介孔二氧化硅为模板合成高比表面积纳米铁酸镧的方法[发明专利]
专利名称:以介孔二氧化硅为模板合成高比表面积纳米铁酸镧的方法专利类型:发明专利发明人:井立强,苏海娇,付宏刚申请号:CN200810064977.4申请日:20080723公开号:CN101318708A公开日:20081210专利内容由知识产权出版社提供摘要:以介孔二氧化硅为模板合成高比表面积纳米铁酸镧的方法,它涉及一种纳米铁酸镧的合成方法。本发明解决了现有铁酸镧的比表面积低的问题。一、La(N
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