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射线式数据处理器[发明专利]
专利名称:射线式数据处理器专利类型:发明专利发明人:郭鹏申请号:CN200910009262.3申请日:20090226公开号:CN101493878A公开日:20090729专利内容由知识产权出版社提供摘要:本发明公开了一种新型数据运算技术。当今世界,主流的运算设备全部是由半导体制造的,但是半导体的特性造成了它的先天不足,半导体从物理上只能表现为0和1,也就是通路和断路。本发明采用了一种脱胎于阴
时间:2024-03-04 热度:8℃
植物基因法转基因技术
基因工程随堂作业题 目:植物基因法转基因技术 院(系):专业:班级:姓名:学号:成绩:完成日期:植物基因法转基因技术转基因技术是指将一个或更多的目的基因导入受体中,使该基因在受体生物中得以表达。随着植物基因工程技术的发展,20世纪80年代末,一项新的基因转化技术---基因技术应运而生。由于基因技术安全性好、效率高,其应用范围迅速从植物基因工程、动物基因工程扩大到基因和基因
时间:2023-08-10 热度:10℃
能谱CT结石成分分析技术在肾结石低能量体外冲击波碎石术中的临床应用...
能谱CT结石成分分析技术在肾结石低能量体外冲击波碎石术中的临床应用 Abstract: Objective: To evaluate the clinical application value of the energy spectrum CT spectrum analysis technique in improving the success rate of lo
时间:2023-11-17 热度:14℃
物理气相淀积--溅射
物理气相淀积(溅射)物理气相淀积的主要方法蒸发电阻丝加热蒸发经济研究导刊电子束蒸发溅射直流溅射加权总分射频溅射磁控溅射利用等离子体中的离子,对被溅镀物体电极进行轰击,使气体等离子体内具有被溅镀物的粒子,这些粒子沉积到晶片上就形成薄膜。溅射方法直流溅射射频溅射磁控融合溅射溅射工艺的原理爆炸力学骗纸溅射的步骤A. 在高真空腔等离子体中产生正氩离子,并向具有负电势的靶材料加速。B. 在加速过程中离子
时间:2023-07-16 热度:13℃
离子束轰击对电子束蒸发制备二氧化钛薄膜应力的影响
第2期陈焘等:离子束轰击对电子束蒸发制备二氧化钛薄膜应力的影响(02)反应制备二氧化钛薄膜。在薄膜沉积前用cC.105冷阴极离子源清洗基底,时间为120s。工作气体为氧气(02),流量为22sccm。制备二氧化钛薄膜时,本底真空度优于8.0×10。3Pa。基底温度为323K一473K,沉积速率为0.2rim・s~一I.5rim・8~,二氧化钛薄膜的厚度为555nm一鲫姗。基底采用直径为50.8mm
时间:2023-08-11 热度:14℃
各种镀膜机工作原理介绍
跨栏架各种镀膜机⼯作原理介绍1.空⼼阴极离⼦镀原理在本底真空为⾼真空的条件下,由阴极中通⼊氩器⽓(1-10-2)在阴极与辅助阳极之间加上引弧电压,使氩⽓发⽣辉光放电,在空⼼阴极内产⽣低压等离⼦体放电,阴极温度升⾼到2300-2400K时,由冷阴极放电转为热阴极放电,开始热电⼦发射,放电转为稳定状态。通⼊反应⽓体,可以制化合膜。2.测控溅射⼯作原理指路器先将真空室预抽⾄10-3Pa,然后通⼊⽓体(如
时间:2023-07-19 热度:12℃
的基本原理是什么?
的基本原理是什么?茶农技艺核桃开口机1、质能方程 即 e = mc^2 在特定的情况下(包括特殊的环境以及特殊的材料),物质的质量能够转换成能力,其变换的公式即质能方程.方程中e为产生的能量,m为转换的物质的质量,c为光速即3*10^8 m/s.2、重核裂变(特殊的材料与环境)某些特殊的材料(如铀等放射性物质)在受到中子轰击后,能够分裂成中子以及比其更轻的原子,于此同时损失质量,这些损失的质
时间:2023-06-06 热度:44℃
光刻机是干什么用的,工作原理是什么?
光刻机是⼲什么⽤的,⼯作原理是什么?光刻机(Mask Aligner)⼜名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。异物志光刻机是⼲什么⽤的?如字⾯意思,就是把我们想要的芯⽚,再通过设计师设计出规格之后⽤光学技术刻在晶圆上,其实和洗相⽚的意思有点接近,⽤光学技术把各种各样形式的电路刻在晶圆从⽽使之后的⼯艺顺着刻出来的样⼦继续加⼯。⼀⽚晶元以12⼨为例⼤概可以⽣产成品⼏百到⼏千不等的⼩芯⽚,⽽不是要将
时间:2023-06-04 热度:29℃
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