CN201880022049.3，膜形成组合物以及使用了其的膜形成方法，[问题]本发明提供一种可形成气体阻隔性能优异的膜的膜形成组合物与膜形成方法。[解决手段]一种膜形成组合物，其特征在于，包含聚硅氮烷、有机溶剂以及具有特定结构的添加剂；以及一种膜形成方法，其包含以下的工序：将该组合物涂布于基板，进行曝光。此特定的添加剂是：在结构中具有由从由碳、氮以及氧组成的组中选出的原子构成的非共轭系环状结构的添加剂之中的、由特定的通式表示的添加剂。