首页 > TAG信息列表 > 组中
  • 简析优质护理服务应用于针灸患者的临床护理效果
    简析优质护理服务应用于针灸患者的临床护理效果发表时间:2018-08-16T15:41:59.757Z  来源:《中国误诊学杂志》2018年第13期作者:李庆霞(1)万顺(2)丁丽萍(3)王娓秀(4)[导读] 目的:在针灸患者实施优质护理服务,分析其临床护理效果。1.江西省南昌市洪都中医院  330008;2.江西省南昌市解放军第九四医院  330000;3,4.南
    时间:2023-09-16  热度:13℃
  • 国家二级ACCESS机试(简单应用题)模拟试卷13(题后含答案及解析)
    国家二级ACCESS机试(简单应用题)模拟试卷13 (题后含答案及解析)题型有:1.  在考生文件夹下有一个数据库文件“samp2.accdb”,里面已经设计好两个表对象“tA”和“tB”,请按以下要求完成设计。  1. 创建一个查询,查并显示6月份入住客人的“姓名”、“房间号”、“电话”和“入住日期”4个字段的内容,将查询命名为“qT1”。 正确答案:步骤1:单击“创建”
    时间:2024-04-07  热度:7℃
  • ...电解水、中性电解水的制造方法及中性电解水的制造装置[发明专利]
    专利名称:中性电解水、中性电解水的制造方法及中性电解水的制造装置专利类型:发明专利发明人:大政龙晋申请号:CN200580029188.1申请日:20051006公开号:CN101010261A公开日:20070801专利内容由知识产权出版社提供摘要:本发明提供一种可以在广泛范围的领域使用的长期稳定的中性电解水、其制造方法及制造装置。本发明的中性电解水经过如下工序制造:对具有选自由NaCl、KCl
    时间:2024-03-25  热度:8℃
  • 电梯组中的消防电梯集水坑
    (19)中华人民共和国国家知识产权局(12)实用新型专利(10)申请公布号 CN201942378U(43)申请公布日 2011.08.24(21)申请号 CN201120004536.2(22)申请日 2011.01.07(71)申请人 深圳市方佳建筑设计有限公司    地址 518000 广东省深圳市福田区福中三路诺德中心6层B、C、D单元(72)发明人 林文(74)专利代
    时间:2024-01-11  热度:10℃
  • 第十一章:VRRP-Master路由器的“选举”和工作过程
    第⼗⼀章:VRRP-Master路由器的“选举”和⼯作过程11.3.3 Master路由器的“选举”VRRP组中只允许存在⼀台Master路由器,选举依据是优先级。优先级的取值范围是0~255,其中 0 和 255 不能直接配置,当路由器主动放弃Master路由器⾓⾊时(管理员⼿动删除了接⼝的VRRP配置),会发出优先级为0的VRRP通告报⽂;当管理员将虚拟路由器的IP地址配置为VRRP组中某⼀台
    时间:2023-08-29  热度:14℃
  • 20个数据分析师必会的营销模型,建议收藏
    20个数据分析师必会的营销模型,建议收藏如果我们要推⼴⼀个买菜app,你准备怎么做?”没经验的⼈完全就是⼀头雾⽔,根本不知道从何开始之前看到过⼀个经典的⾯试题,问“如果我们要推⼴⼀个买菜app,你准备怎么做?做;有经验的⼈,虽说能说出⼀些像“多渠道投放”、“裂变拉新”这样的内容,但逻辑不够严谨。套⽤分析模型,利⽤模型来盘清问题这样的问题,不仅会在⾯试中遇到,⽇常⼯作中也经常遇到,那该怎么解决这些问
    时间:2023-08-02  热度:10℃
  • 一种钛—钢套管换热器的制作方法
    一种钛—钢套管换热器技术领域1.本实用新型属于换热器领域,具体地说是一种钛—钢套管换热器。背景技术:2.由于介质和工况所需,有一种套管换热器,内管为钛管,套管为钢管。由于钛与钢不具有可焊性,套管与内管
    时间:2023-01-02  热度:43℃
  • 一种新型纵锯装置的制作方法
    1.本实用新型属于翻板设备技术领域,具体涉及一种新型纵锯装置。背景技术:2.目前,在刨花板生产线及osb板生产线中所采用的后处理纵锯机,存在较大的不足,运行时噪音大,运行时平稳度较差,对传动效率和传动
    时间:2022-12-05  热度:62℃
  • 一种制冷制热床垫的制作方法
    1.本实用新型涉及床垫技术领域,尤其涉及一种制冷制热床垫。背景技术:2.目前老式床垫都是由海绵和弹簧结构制作而成,这种床垫的表面温度不可调控,基于这一问题我们提出了一种制冷制热床垫。技术实现要素:3.
    时间:2022-12-02  热度:77℃
  • 一种半导体生产调度方法、系统及设备与流程
    1.本发明涉及半导体技术领域,尤其涉及一种半导体生产调度方法、系统及设备。背景技术:2.当下多数曝光设备的机型使用的是两个卡盘交互运行晶圆(run wafer),因晶圆进曝光机后,使用的第一道或之后的
    时间:2022-11-28  热度:59℃
Copyright ©2019-2024 Comsenz Inc.Powered by © 易纺专利技术学习网 豫ICP备2022007602号 豫公网安备41160202000603 站长QQ:729038198 关于我们 投诉建议