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  • 一种鉴别和测量半导体材料中掺杂元素的方法[发明专利]
    [19]中华人民共和国国家知识产权局[12]发明专利申请公布说明书[11]公开号CN 101446563A [43]公开日2009年6月3日[21]申请号200710178098.X [22]申请日2007.11.26[21]申请号200710178098.X[71]申请人北京有金属研究总院地址100088北京市新街口外大街2号共同申请人有研半导体材料股份有限公司 国泰半导体材料有限公司[72]
    时间:2024-03-22  热度:7℃
  • 一种硅晶圆的激光隐切工艺及切割装置[发明专利]
    (19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请号 202010648452.6(22)申请日 2020.07.07(71)申请人 河南通用智能装备有限 450000 河南省郑州市高新技术产业开发区瑞达路96号创业中心2号楼一楼A130-10号(72)发明人 陶为银 巩铁建 蔡正道 (74)专利代理机构 郑州银河专利代理有限公司4
    时间:2024-03-07  热度:6℃
  • 一种硅晶圆的激光隐切工艺及切割装置[发明专利]
    (19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请号 202010648452.6(22)申请日 2020.07.07(71)申请人 河南通用智能装备有限 450000 河南省郑州市高新技术产业开发区瑞达路96号创业中心2号楼一楼A130-10号(72)发明人 陶为银 巩铁建 蔡正道 (74)专利代理机构 郑州银河专利代理有限公司4
    时间:2024-02-22  热度:10℃
  • 半导体之集成电路产业链全景图
    半导体之集成电路产业链全景图半导体主要由四个组成部分组成:集成电路(约占81%),光电器件(约占10%),分立器件(约占6%),传感器(约占3%),因此通常将半导体和集成电路等价。日本信越信越化学工业株式会社,1926年成立,经半个多世纪的发展,其自行研制的单晶硅片、有机硅、纤维素衍生物等原材料已成功建立了全球范围的生产和销售网络,其半导体硅、聚氯乙烯等原材料的供应在全球首屈一指。信越集团自行生产
    时间:2023-10-28  热度:30℃
  • 半导体之集成电路产业链全景图
    半导体之集成电路产业链全景图半导体主要由四个组成部分组成:集成电路(约占81%),光电器件(约占10%),分立器件(约占6%),传感器(约占3%),因此通常将半导体和集成电路等价。磁悬浮鼠标日本信越信越化学工业株式会社,1926年成立,经半个多世纪的发展,其自行研制的单晶硅片、有机硅、纤维素衍生物等原材料已成功建立了全球范围的生产和销售网络,其半导体硅、聚氯乙烯等原材料的供应在全球首屈一指。信越集
    时间:2023-10-15  热度:14℃
  • 芯片制造流程详解,具体到每一个步骤
    芯⽚制造流程详解,具体到每⼀个步骤这篇要讨论的重点则是半导体产业从上游到下游到底在做些什么。先来看⼀下关联图:单兵作战系统图⽚来源:⾃制我们先从⼤⽅向了解,之后再局部解说。半导体产业最上游是IC设计公司与硅晶圆制造公司,IC设公司计依客户的需求设计出电路图,硅晶圆制造公司则以多晶硅为原料制造出硅晶圆。中游的IC制造公司主要的任务就是把IC设计公司设计好的电路图移植到硅晶圆制造公司制造好的晶圆上。完
    时间:2023-10-03  热度:17℃
  • 图解芯片制造工艺流程(全图片注解,清晰明了)
    图解芯片制造工艺流程(全图片注解,清晰明了)木醋液>前继弹性夹头该资料简洁明了,配图生动,非常适合普通工程师、入门级工程师或行业菜鸟,帮助你了解芯片制造的基本工艺流程。 首先,在制造芯片之前,晶圆厂得先有硅晶圆材料。从硅晶棒上切割出超薄的硅晶圆,然后就可以进行芯片制造的流程了。 1、湿洗 (用各种试剂保持硅晶圆表面没有杂质) 2、光刻 (用紫外线透过蒙版照射硅晶圆, 被照到的地方就会容易被洗掉,
    时间:2023-10-03  热度:14℃
  • 碳化硅晶圆生产工艺
    碳化硅晶圆生产工艺saba-018>so.csdn/api/v3/search?p=1&t=all&q=碳化硅晶圆生产工艺是一种高科技复杂的制造技术,通过物理和碎花刀刀交互式拼接屏化学反应依次完成以下几个步骤:1. 材料准备:准备碳化硅、硅和炭素材料,按比例混合。电子加速器辐照2. 烧结:将混合材料置于真空或惰性气氛中,在高温下进行烧结,使其变成形状良好、密度均匀的块状体。
    时间:2023-08-18  热度:13℃
  • 芯片设计中的一些专业名词
    芯⽚设计中的⼀些专业名词关于制造Wafer:scop-369晶圆,它是指制作硅半导体积体电路所⽤的硅晶⽚,其原始材料是硅。⾼纯度的多晶硅溶解后掺⼊硅晶体晶种,然后慢慢拉出,形成圆柱形的单晶硅,硅晶棒在经过研磨,抛光,切⽚后,形成硅晶圆⽚,也就是晶圆。新闻经常说的6英⼨、8英⼨、12英⼨指的就是晶圆⽣产线的尺⼨,即Wafer的size。Die:电梯箱⼀⽚Wafer上的⼀⼩块晶⽚晶圆体称为Die。由于
    时间:2023-07-27  热度:14℃
  • 芯片制造流程详解,具体到每一个步骤
    芯⽚制造流程详解,具体到每⼀个步骤这篇要讨论的重点则是半导体产业从上游到下游到底在做些什么。先来看⼀下关联图:图⽚来源:⾃制我们先从⼤⽅向了解,之后再局部解说。半导体产业最上游是IC设计公司与硅晶圆制造公司,IC设公司计依客户的需求设计出电路图,硅晶圆制造公司则以多晶硅为原料制造出硅晶圆。中游的IC制造公司主要的任务就是把IC设计公司设计好的电路图移植到硅晶圆制造公司制造好的晶圆上。完成后的晶圆再
    时间:2023-07-13  热度:17℃
  • 芯片制造流程详解,具体到每一个步骤
    芯⽚制造流程详解,具体到每⼀个步骤这篇要讨论的重点则是半导体产业从上游到下游到底在做些什么。先来看⼀下关联图:图⽚来源:⾃制我们先从⼤⽅向了解,之后再局部解说。半导体产业最上游是IC设计公司与硅晶圆制造公司,IC设公司计依客户的需求设计出电路图,硅晶圆制造公司则以多晶硅为原料制造出硅晶圆。中游的IC制造公司主要的任务就是把IC设计公司设计好的电路图移植到硅晶圆制造公司制造好的晶圆上。完成后的晶圆再
    时间:2023-07-13  热度:13℃
  • 如何正确分辨硅片的等级分类及标准?
    如何正确分辨硅⽚的等级分类及标准?注:①每家硅⽚企业的标准都不⼀样,仅供参考,②以下标准针对的硅⽚厚度为220µm。)⼀、优等品1:硅⽚表⾯光滑洁净。2:TV:220±20µm。3:⼏何尺⼨:边长125±0.5mm;对⾓150±0.5mm、148±0.5mm、165±0.5mm;边长103±0.5mm、对⾓135±0.5mm;宗修英边长150±0.5mm、156±0.5mm、对⾓203±0.5mm
    时间:2023-06-28  热度:18℃
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