CN201880027584.8，用于生产底切图案轮廓的负性抗蚀剂配制剂，本发明公开可用365nm辐射成像、可在水性碱中显影的负性工作的光致抗蚀剂组合物。除溶剂外，这种组合物还包含：a)具有环键合羟基的水性碱溶性酚类成膜聚合物粘结剂树脂；b)光致产酸剂；c)包含醚化三聚氰胺的交联剂；d)如本文所述的染料；e)基本上由如所述的胺猝灭剂或此类胺猝灭剂的混合物组成的猝灭剂体系。本发明还涉及使用这种组合物作为光致抗蚀剂的方法。