CN201080008928.4，用于使激光辐射均匀化的设备，一种使具有至少在与激光辐射的传播方向(Z)垂直的第一方向(X)上相互间隔开的子射束(2)的激光辐射均匀化的设备，尤其用于使源自激光二极管阵列的激光辐射均匀化，包括折射面(6，6a)的阵列(5)，折射面至少能不同地偏转要均匀化的激光辐射的多个子射束(2)使得这些子射束在穿过折射面(6，6a)之后与穿过折射面(6，6a)之前相比至少部分地相互更会聚地行进；以及透镜装置(7)，穿过折射面(6，6a)的阵列(5)的子射束(2)能通过透镜装置，透镜装置(