第二章  光的衍射 1 单平面光照射到一小圆孔上，将其波面分成半波带，求第k个波带的半径。若极点到观察点的距离r0为1m，单光波长为450nm，求此时第一半波带的半径。解：当用平面光照射圆孔时，第k个波带的半径，由：  平行光R=∞解出为： 当：r0=1m、λ=450nm、k=1时，第一半波带的半径：2 平行单光从左向右垂直照射到一个有圆形小孔的屏上，设此孔可以像照相机的

专利名称：一种基于复合波带片的数字全息成像系统专利类型：发明专利发明人：陈晶晶，田鹏，郭潇逸，林思建申请号：CN202011100752.7申请日：20201015公开号：CN114371607A公开日：20220419专利内容由知识产权出版社提供摘要：本发明是一种基于复合波带片的数字全息成像系统，由一个复合波带片和一个图像探测器组成，复合波带片由相位波带片和振幅波带片结合而成，二者制作在同一块衬

用计算全息法测量长焦透镜的透射波前魏小红;何宇航;高波;徐凯源;李强;柴立【摘 要】为了高精度地检测长焦透镜的透射波前,提出了在Zygo干涉仪的平面光路中加入一个二元衍射元件提供参考波前的计算全息法(CGH).介绍了计算全息法检测长焦透镜透射波前的理论,设计并研制了高精度计算全息板,并将其用于大口径长焦距透镜透射波前检测.理论分析和实际检测结果表明:该方法系统误差小,测量重复性精度优于0.004

gmr传感器Hans Journal of Nanotechnology纳米技术, 2019, 9(2), 41-54Published Online May 2019 in Hans. /journal/nat/10.12677/nat.2019.92005The Application and Fabricationof

【litho-man】光刻工艺中常见的对准技术作者：***邮箱：*******************光刻对准技术由最初的明场和暗场对准发展到后来的干涉全息或外差干涉全息对准、混合匹配、由粗略到精细对准技术等。对准精度也由原来的微米级提高到纳米级，极大促进了集成电路制造业的发展。目前的高精度光刻设备主要采用的对准方式可以分为光栅衍射空间滤波和场像处理对准技术。从对准原理上及标记结构的角度分类，对准