椭偏技术在研究多孔低介电常数薄膜中的应用1许金海，刘雪芹, 黄春奎兰州大学物理科学与技术学院，兰州（730000）E-mail：xqliu@lzu.edu摘要：多孔低介电常数（Low k）材料有望作为集成电路互连介质的优良候选材料之一。椭偏技术不但可以快速、简捷、无损伤的测出薄膜的光学常数和膜厚，而且还可以用来研究多孔薄膜的微结构和机械特性，因此被广泛应用到多孔Low k薄膜研究中。本文分别

椭偏光谱原理和技术    本章通过介绍椭偏光谱的基本原理、光度型椭偏光谱仪以及椭偏光谱分析特点，给出了椭偏光谱技术在离子注入的辐照损伤以及材料光学性质研究中的应用和局限。利用椭偏光谱技术，结合其它分析手段并建立精细的分析模型，椭偏光谱技术能够从复杂的材料结构中，快速、精确和方便地测量并分析各层结构的厚度、成份、气孔率和光学常数。椭偏光谱技术将在材料的光学性质研究和离子注入的辐照

材料科学与工程学报湖南水利水电杂志北京量拓科技有限公司（ELLITOP SCIENTIFIC CO., LTD.）（以下简称“量拓科技”）是专业的高端椭偏仪器研发制造企业。量拓科技成立于2008年4月，是中国唯一的专业椭偏仪器企业,专业致力于椭偏测量的方法研究、技术开发、产品制造和仪器销售，并提供纳米薄膜层构和物性参数的椭偏测试服务和椭偏测量整体解决方案的专业咨询服务。经过持续的创新发展，目前已成

椭偏法测薄膜厚度姓名：孙国防班级:12理工实验班(2)班学号:2012326690042实验目的1. 测量透明介质薄膜厚度和折射率。2. 测量布儒斯特角，验证马吕斯定律及偏光分析等偏振实验。实验原理1. 介质膜的测量使一束自然光经起偏器变成线偏振光。再经1/4波片，使它变成椭圆偏振光入射在待测的膜表面上。反射时，光的偏正态将发生变化。通过检测这种变化，便可以推算出待测膜面的某些光学参数（如膜厚和折

紫外薄膜光学常数的多层模型椭偏测量引用格式吴慧利;唐义;白廷柱;蒋玉蓉;蒋静【摘 要】电子商城研究了基于光谱式椭偏仪精确测量紫外弱吸收薄膜光学常数的可靠方法.以HfO2和SiO2薄膜为研究对象,用光谱式椭偏仪测量了薄膜的多角度椭偏参数,采用逐点优化法,建立了多层模型.利用Cauchy-Urbach模型进行数据拟合,获得了HfO2和SiO2薄膜在200～900 nm波段的光学常数,并比较双层薄膜拟合

第27卷第5期2001年9月光学技术OPTICAL TECHNIOUEVoI.27No.5Se p !!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!t.2001文章编号：1002-1582（2001）05-0432-03多功能椭偏测厚仪"黄佐华1，何振江1，杨冠玲1，傅强1，宁惠军2（1.华南师范大学物理系，广州51

光谱椭偏仪技术-原理及应⽤（第三章）请不要转载⽬前关于椭偏仪设备及应⽤技术的专门中⽂专著还很难到，因此尝试对Hiroyuki Fujiwara 先⽣的《SPECTROSCOPIC ELLIPSOMETRY:Principles and Applications 》这边书进⾏翻译，供需要的⼈参考。因为⽔平有限，错误在所难免，请批评指正。 此外，翻译过程皆个⼈⾏为，不产⽣商业利益，如果和原著存在版权