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  • 有机电子器件的制备方法
    CN200980146423.1，有机电子器件的制备方法，本发明涉及闭合场非平衡磁控溅射离子镀工艺在有机电子器件或其组件制备中的应用，以及可通过这种方法获得的有机电子器件或其组件。
    时间：2023-03-13  热度：29℃
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