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> TAG信息列表 > 显影液
一种高浓CF显影液及其制备方法[发明专利]
(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请号 202010875693.4(22)申请日 2020.08.27(71)申请人 江苏中德电子材料科技有限 214400 江苏省无锡市江阴市科达路33号(72)发明人 何珂 戈士勇 汤晓春 (74)专利代理机构 江阴义海知识产权代理事务所(普通合伙) 32247代理人 林友琴(51
时间:2024-02-20 热度:7℃
一种用于TFT-LCD行业CF制程的负胶显影液
(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利说明书(10)申请公布号 CN 114236981 A(43)申请公布日 2022.03.25(21)申请号 CN202111398974.6(22)申请日 2021.11.24(71)申请人 苏州博洋化学股份有限公司 地址 215000 江苏省苏州市高新区浒墅关镇华桥路155号(72)发明人 李华平 陈浩 王润杰 (7
时间:2024-01-30 热度:12℃
黄光段生产明细
为用绿光灯照射烙板上表面异常区域无异常,看下表面时却发现异常,用洁净十级无尘布沾酒精进行擦拭后无尘布表面泛黄。擦出后因该种原因引发的一场必将消失。4、异常情况:显影未净/过度显影分析及其处理:显影未净出现则:①显影液异常,因为显影液使用长时间未进行更换(要求三个小时更换一次),或者显影液配置时浓度未达标。检查显影液浓度或者更换新显影药后因该原因引起的异常消失。②机台喷淋头堵塞,检查喷淋头,若大多不
时间:2023-11-12 热度:21℃
显影液主要成分
空间数据库显影液主要成分刘功臣呢?在众多的显影配方中如何区别其性能呢?我们是否可以自己制定或调整显影配方呢?应该说,当掌握了化学显影的一般规律之后,通过底片显影实验,这些问题是能够迎刃而解的。一、感光乳剂与化学显影感光乳剂是由悬浮干明脏层中的无数细微的卤化银晶体组成的。负性乳剂的卤化银大多为溴化银和少量的碘化银乳剂的条件在很大程度上决定着生成卤化银晶体颗粒的大小及其分布。而颗粒大小又决定着乳剂的感
时间:2023-11-08 热度:15℃
显影液是如何组成的-
显影液是如何组成的? 篇一:显影液-MSDS 物 质 安 全 资 料 表(MSDS) 制作人:杨晓红制作日期:2011年03月06日 篇二:显影,定影的原理 显影液、定影液的成份和作用 形意拳谱褚世新 感光片在制作过程中主要程序如下:建立潜像于感光片上——曝光;变潜像为可见影像—显影;稳定可见影像—定影。
时间:2023-11-08 热度:13℃
用于电子束光刻胶PMMA的显影液及其配制方法
(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号 CN101776852A(43)申请公布日 2010.07.14(21)申请号 CN201010101998.6(22)申请日 2010.01.27(71)申请人 中国科学院半导体研究所 地址 100083 北京市海淀区清华东路甲35号(72)发明人 王秀平;杨晓红;韩勤(74)专利代理机构 中科
时间:2024-05-24 热度:9℃
用于电子束光刻胶PMMA的显影液及其配制方法
(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号 CN101776852A(43)申请公布日 2010.07.14(21)申请号 CN201010101998.6(22)申请日 2010.01.27(71)申请人 中国科学院半导体研究所 地址 100083 北京市海淀区清华东路甲35号(72)发明人 王秀平;杨晓红;韩勤(74)专利代理机构 中科
时间:2024-05-21 热度:7℃
显影液自动添加系统[实用新型专利]
专利名称:显影液自动添加系统专利类型:实用新型专利发明人:林驯申请号:CN200820214330.0申请日:20081205公开号:CN201298144Y公开日:20090826专利内容由知识产权出版社提供摘要:本实用新型技术方案涉及一种显影液自动添加系统。所述显影液自动添加系统包括光电检测装置、控制装置、泵体和备用显影液存储装置,其中,所述光电检测装置安装于入料口,所述光电检测装置与所述控制
时间:2024-03-24 热度:8℃
可有效去除晶圆光刻工艺过程中显影缺陷的显影方法[发明专利]
[19]中华人民共和国国家知识产权局[12]发明专利申请公布说明书[11]公开号CN 101587305A [43]公开日2009年11月25日[21]申请号200810037677.7[22]申请日2008.05.20[21]申请号200810037677.7[71]申请人中芯国际集成电路制造(上海)有限201203上海市张江路18号[72]发明人邹渊渊 梁国亮 高连花 蔡奇澄 [74]
时间:2024-03-17 热度:9℃
可有效去除晶圆光刻工艺过程中显影缺陷的显影方法[发明专利]
[19]中华人民共和国国家知识产权局[12]发明专利申请公布说明书[11]公开号CN 101587305A [43]公开日2009年11月25日[21]申请号200810037677.7[22]申请日2008.05.20[21]申请号200810037677.7[71]申请人中芯国际集成电路制造(上海)有限201203上海市张江路18号[72]发明人邹渊渊 梁国亮 高连花 蔡奇澄 [74]
时间:2024-03-10 热度:8℃
一种高浓CF显影液及其制备方法[发明专利]
(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请号 202010875693.4(22)申请日 2020.08.27(71)申请人 江苏中德电子材料科技有限 214400 江苏省无锡市江阴市科达路33号(72)发明人 何珂 戈士勇 汤晓春 (74)专利代理机构 江阴义海知识产权代理事务所(普通合伙) 32247代理人 林友琴(51
时间:2024-03-10 热度:8℃
显影液自动添加系统[实用新型专利]
专利名称:显影液自动添加系统专利类型:实用新型专利发明人:林驯申请号:CN200820214330.0申请日:20081205公开号:CN201298144Y公开日:20090826专利内容由知识产权出版社提供摘要:本实用新型技术方案涉及一种显影液自动添加系统。所述显影液自动添加系统包括光电检测装置、控制装置、泵体和备用显影液存储装置,其中,所述光电检测装置安装于入料口,所述光电检测装置与所述控制
时间:2024-01-30 热度:8℃
一种高浓CF显影液及其制备方法[发明专利]
(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请号 202010875693.4(22)申请日 2020.08.27(71)申请人 江苏中德电子材料科技有限 214400 江苏省无锡市江阴市科达路33号(72)发明人 何珂 戈士勇 汤晓春 (74)专利代理机构 江阴义海知识产权代理事务所(普通合伙) 32247代理人 林友琴(51
时间:2024-01-13 热度:12℃
光刻胶参数及光刻工艺
光刻胶参数及光刻工艺1、正性光刻胶RZJ-304●规格RZJ-304:25mpa·s,50mpa·s(粘稠度),配用显影液:RZX-3038●匀胶曲线注:粉为50cp,蓝为25cp●推荐工艺条件①涂布:23℃,旋转涂布,膜厚1.0~3.5μm②前烘:热板100℃×90sec③曝光:50~75mj/cm2(计算方法:取能量60mj/cm2取光强400×102um/cm2,则60/40=1.5s)
时间:2023-12-31 热度:19℃
显影液定影液的配制
资料范本
时间:2023-12-30 热度:14℃
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