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  • 一种增加碳化硅晶体生长长度的石墨坩埚[发明专利]
    专利名称:一种增加碳化硅晶体生长长度的石墨坩埚专利类型:发明专利发明人:蒲红斌,李小红,刘兵,封先锋申请号:CN201810159428.9申请日:20180226公开号:CN108374197A公开日:20180807专利内容由知识产权出版社提供摘要:本发明公开了一种增加碳化硅晶体生长长度的石墨坩埚,包括石墨盖和石墨底槽,石墨盖和石墨底槽之间还设置有石墨环,石墨盖位于石墨环的上部封口处,石墨盖下
    时间:2023-12-01  热度:14℃
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