(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请号 202011516539.4(22)申请日 2020.12.21(71)申请人 苏州竞立制氢设备有限 215000 江苏省苏州市吴中经济开发区枫津路16号(72)发明人 姜超　马军　张若雨　陆涧　(74)专利代理机构 苏州领跃知识产权代理有限公司 32370代理人 王宁(51)I

专利名称：一种用于激光共聚焦显微镜拍照的细胞培养装置专利类型：实用新型专利发明人：马元，曾晓宁，俞琪珺，伏杭江申请号：CN201820009799.4申请日：20180104公开号：CN207793288U公开日：20180831专利内容由知识产权出版社提供摘要：一种用于激光共聚焦显微镜拍照的细胞培养装置，属于生物实验器材领域。所述细胞培养装置包括主板、卡槽、载玻片和培养小室挡板，所述主板为包括至

专利名称：一种矩形恒温平面射频线圈装置专利类型：实用新型专利发明人：陈特超，谢利华，李健志，林伯奇，毛朝斌申请号：CN201320334505.2申请日：20130609公开号：CN203367328U公开日：20131225专利内容由知识产权出版社提供摘要：本实用新型涉及太阳能电池片生产设备，即一种矩形恒温平面射频线圈装置，包括反应室和两端加高频电源并产生高频磁场的线圈，所述反应室分为小室和置于

专利名称：一种transwell实验操作装置专利类型：实用新型专利发明人：吴丹，仇庆，刘彩云申请号：CN202121440549.4申请日：20210628公开号：CN215799622U公开日：20220211专利内容由知识产权出版社提供摘要：本实用新型公开了一种transwell实验操作装置，包括底座、支持板、小室和上样板，底座设置有凹槽；支持板设置于底座上，支持板上设置小室安装贯穿槽，使得小

(10)授权公告号 CN 201648397 U(45)授权公告日 2010.11.24C N  201648397 U*CN201648397U*(21)申请号 201020141909.6(22)申请日 2010.03.25C12M 1/36(2006.01)C12M 1/00(2006.01)(73)专利权人西北工业大学地址710072 陕西省西安市友谊西路127号646信箱(72

专利名称：在气体环境中执行曝光处理的基片处理系统专利类型：发明专利发明人：城户秀作，饭尾善秀，池田雅树申请号：CN200410071263.8申请日：20020828公开号：CN1555084A公开日：20041215专利内容由知识产权出版社提供摘要：一种能够将曝光处理气体喷向设置在小室中的基片上的基片处理系统。小室用来在通过蒸发有机溶剂溶液获得的气体环境中执行在基片表面上形成有机薄膜的曝光处理，

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利说明书(10)申请公布号 CN 113604815 A(43)申请公布日 2021.11.05(21)申请号 CN202110861626.1(22)申请日 2021.07.29(71)申请人 中国船舶重工集团公司第七一八研究所    地址 056027 河北省邯郸市展览路17号(72)发明人 郭少波 王杰鹏 宋时莉 陶志杰

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(19)中华人民共和国国家知识产权局安全绳网(12)发明专利说明书(10)申请公布号 尾排tt42CN 112760673 A(43)申请公布日 2021.05.07(21)申请号 CN202011516539.4(22)申请日 2020.12.21(71)申请人 苏州竞立制氢设备有限公司    地址 215000 江苏省苏州市吴中经济开发区枫津路16号(72)发明人 姜超 马

导电碳浆浅谈电压互感器及避雷器柜作者：王栋来源：《城市建设理论研究》2013年第18期硬质合金丝锥        摘 要：在国家建设和人们的工作生活中，电已经成为必不可少的能源，而大量电力的使用消耗，要靠各类电厂产出，电压互感器及避雷器柜是电厂不可缺少的设备，必须充分重视，所以我们要明确了解电压互感器及避雷器柜的性能特点，作用及使用注意事项，努力减少其故障机

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11. 细胞爬片进行细胞免疫荧光检测11.1将4.5×105个Hep3B细胞/孔传代于无菌6孔培养板中。11.2培养24h后，用Lipofectamine TM 2000将37LRP siRNA转染Hep3B细胞（两个平行孔，Lipofectamine TM 2000转染具体操作见方法7），转染后的细胞置37℃、5％CO2培养箱培养，48h后收集细胞。同时各有两个平行孔的细胞进行阴性对照转染及不行

一、Transwell小室制备老年法1.  无基质胶Transwell小室制备① 包被基底膜：用50 mg/LMatrigel 1:8稀释液包被Transwell小室底部膜的上室面，4 ℃风干。如果需要在下室面铺FN的话，可将200 ul头的尖端剪掉,吸取FN均匀涂抹在小室的下面。用胶原（collagen）的话，一般配成0.5 mg/ml，直接用吸了涂在膜上。② 水化基底膜：吸出培养

一、Transwell小室制备1。  无基质胶Transwell小室制备① 包被基底膜：用50 mg/LMatrigel 1:8稀释液包被Transwell小室底部膜的上室面，4 ℃风干。如果需要在下室面铺FN的话，可将200 ul头的尖端剪掉，吸取FN均匀涂抹在小室的下面。用胶原(collagen）的话,一般配成0。5 mg/ml，直接用吸了涂在膜上。② 水化基底膜：吸出培养板中残