专利名称：调节基板温度来改进关键尺寸(CD)的均匀性专利类型：发明专利台湾问题发明人：基思·威廉·加夫，哈米特·辛格，基思·科门丹特，瓦希德·瓦赫迪申请号：CN201510733658.8集美大桥申请日：20101213公开号：CN105428295A公开日：20160323专利内容由知识产权出版社提供淮南三中wdc2010摘要：一种具有带有多个独立可控加热器区域的基板支承组件的等离子体蚀刻系统。