CN201910185949.6，基于光场重采样的集成成像二次成像法，本发明提出基于光场重采样的集成成像二次成像法，该方法包含立体匹配、3D物点重构和光场重采样三个过程，立体匹配过程寻找到同一3D物点在拍摄微图像阵列中的同名点，3D物点重构过程根据同名点的像素移位和拍摄透镜阵列以及拍摄微图像阵列参数计算出3D物点的真实三维坐标，光场重采样过程将重构的3D物点视为朗伯光源，发出各向均匀的光场信息，由显示透镜阵列对光场信息进行重采样，获得理想的显示微图像阵列。