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  • 双层辉光离子渗碳装置及工艺
    CN02110184.1,双层辉光离子渗碳装置及工艺,本发明双层辉光离子渗碳装置及工艺属于金属材料表面化学热处理工艺技术的范畴。具体的来讲是一种在导电物质的表面利用双层辉光离子渗金属中的空心阴极效应及不等电位空心阴极效应,进行离子渗碳与碳-氮共渗的技术和装置。本发明提供了以石墨为供给碳源的辉光溅射渗入装置和方法。空心阴极效应及不等电位空心阴极效应,加强了碳的渗入及可控性。充入含氮气氛可以实现碳氮共渗。本发明是一种碳原子形成方便、快捷、无污染、渗入速度快,渗层均匀,成份可控,设备简单,成本低、无氢渗碳的辉光
    时间:2023-03-31  热度:31℃
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