首页 > TAG信息列表 > 划道
  • 硅片清洗工艺与粘污杂质成份的分析
    实验试剂选择:(1)HF清洗液配比:HF酸:水=1:10。(2)清洗溶液的配比:Q325一DQ325一B:水=l:3:30。所用水为高纯去离子水。实验步骤:a)常温高压高纯水冲洗1分钟。b)HF酸:水=1:10浸泡5分钟。C)常温高压高纯水冲洗1分钟。d)450C清洗溶液超声清洗15分钟。e)常温高压高纯水冲洗1分钟。f)常温高纯水超声清洗5分钟。g)常温高压高纯水冲洗1分钟并甩干。实验结果与分析
    时间:2023-05-04  热度:163℃
Copyright ©2019-2024 Comsenz Inc.Powered by © 易纺专利技术学习网 豫ICP备2022007602号 豫公网安备41160202000603 站长QQ:729038198 关于我们 投诉建议