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夏光强、国家税务总局宁波市税务局稽查局税务行政管理(税务)二审行政判决书庚子之变【案由】行政  行政行为种类  政府信息公开  【审理法院】浙江省宁波市中级人民法院  【审理法院】浙江省宁波市中级人民法院  【审结日期】2020.04.23  波士顿咨询公司模型【案件字号】(2020)浙02行终126号  【审理程序】二审&nb

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光刻机光强影响因素分析绥化学院图书馆孙明睿;李雪;甄万财【摘 要】曝光系统是接触接近式光刻机的核心部件,系统的曝光强度对光刻工艺有很大的影响.通过对曝光光路系统进行详细分析,对影响光强的各种因素进行了论述和计算,为进一步改善曝光系统光强指明了方向.【期刊名称】《电子工业专用设备》【年(卷),期】2017(046)005【总页数】4页(P18-21)【关键词】光刻机;曝光系统;曝光强度【作 者】孙明

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宽反射角DBR红光发光二极管3韩　军33，李建军，邓　军，邢艳辉，于晓东，林委之，刘　莹，沈光地(北京市光电子技术实验室，北京工业大学，北京100022)摘要：对用于提高Al G aInP红光发光二极管出光效率的传统DBR进行了分析，用MOCVD生长了包含对垂直入射光反射的DBR和对斜入射光反射的DBR复合在一起的红光L ED，在20mA注入电流下,L ED的峰值波长为630nm，轴向光强达到13

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