专利名称：一种晶圆洗边系统和晶圆洗边方法专利类型：发明专利发明人：吴健健，徐萍申请号：CN201710970284.0申请日：20171016公开号：CN109669321A公开日：20190423专利内容由知识产权出版社提供摘要：本发明提供一种晶圆洗边系统和晶圆洗边方法，所述系统包括：晶圆承载系统，所述晶圆承载系统用于水平承载待洗边晶圆，所述待洗边晶圆表面形成有具有独立芯片裸片图形的光刻胶掩膜层

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请号 201910712619.8(22)申请日 2019.08.02(71)申请人 复旦大学地址 200433 上海市杨浦区邯郸路220号(72)发明人 熊诗圣　姜琴　李冬雪　(74)专利代理机构 上海正旦专利代理有限公司31200代理人 陆飞　陆尤(51)Int.Cl.H01L 

宏大自动络筒机了为什么说改革是中国的第二次革命包装与食品机械马自达6睿翼使用手册-由内至外恐龙危机1攻略>光刻法>黄军导航

电子束光刻三维仿真研究宋会英，杨 瑞，赵真玉(中国石油大学(华东)计算机与通信工程学院，山东东营257061)摘 要: 本文利用Monte Carlo 方法及优化的散射模型，对电子束光刻中电子在抗蚀剂中的散射过程进行了模拟，通过分层的方法，对厚层抗蚀剂不同深度处的能量沉积密度进行了计算，建立了电子束光刻厚层抗蚀剂的三维能量沉积模型.根据建立的三维能量沉积模型，采用重复增量扫描策略对正梯锥三维微结构

专利名称：光刻版夹具专利类型：实用新型专利发明人：王友旺申请号：CN200820092598.1申请日：20080314公开号：CN201188170Y公开日：20090128专利内容由知识产权出版社提供摘要：本实用新型公开了一种光刻版夹具，包括一底座，所述底座上固设有一安装架，所述安装架边缘设有内径小于光刻版外径的夹持部，所述夹持部内侧设有放置光刻版的凸垫，其中，所述夹持部由韧性材料制成；所述底

光刻技术及其专利分析 光刻机是人类最精密复杂的机器，用于在芯片上刻出晶体管器件的结构和晶体管之间的连接通路。集成电路在制造过程中经历材料制备、掩膜、光刻、清洗、刻蚀、渗杂、化学机械抛光等多个工序，其中光刻工艺最为关键，它决定整个产业制造工艺的先进程度。光刻机是集成电路装备中技术难度最高、价格最昂贵的关键设备。研究光刻机领军企业成功因素，对我国提升创新能力，发展尖端制造业，培育世界一流的高技术企业，

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请号 202011459003.3(22)申请日 2020.12.11(71)申请人 上海集成电路装备材料产业创新中心有限 201800 上海市嘉定区叶城路1288号6幢JT2216室申请人 上海集成电路研发中心有限公司(72)发明人 李立人　时雪龙　燕燕　许博闻　周涛　(74)专利代

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请号 202011459003.3(22)申请日 2020.12.11(71)申请人 上海集成电路装备材料产业创新中心有限 201800 上海市嘉定区叶城路1288号6幢JT2216室申请人 上海集成电路研发中心有限公司(72)发明人 李立人　时雪龙　燕燕　许博闻　周涛　(74)专利代

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请号 201811620801.2(22)申请日 2018.12.28(71)申请人 厦门恒坤新材料科技股份有限 361000 福建省厦门市海沧区东孚镇山边路389号(72)发明人 肖楠　宋里千　王静　(74)专利代理机构 厦门市精诚新创知识产权代理有限公司 35218代理人 赖秀华(

光敏聚酰亚胺的研究与应用进展魏文康;虞鑫海;王凯;吕伦春【摘 要】光敏聚酰亚胺因其优良的综合性能,被广泛地应用于微电子领域的绝缘层和保护层等.本文综述了光敏聚酰亚胺(PSPI)的最新研究进展、发展概况,并且分别对负性光敏聚酰亚胺和正性光敏聚酰亚胺的结构、性能、合成方法以及相关材料的实际应用进行了系统的阐述.【期刊名称】《合成技术及应用》民族冲突【年(卷),期】2018(033)003王坤和蔡慧近况

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利说明书(10)申请公布号 CN 113960891 A(43)申请公布日 2022.01.21(21)申请号 CN202111248686.2(22)申请日 2021.10.26(71)申请人 之江实验室;浙江大学    地址 310023 浙江省杭州市余杭区文一西路1818号人工智能小镇10号楼(72)发明人 匡翠方 王洪庆

专利名称：用于快速估计集成电路布局中的光刻绑定图案的方法专利类型：发明专利发明人：S·巴赫里,D·L·德玛里斯,M·加布拉尼,D·O·梅尔维尔,A·E·罗森布鲁斯，田克汉申请号：CN201180034018.8申请日：20110706公开号：CN102986002A公开日：20130320专利内容由知识产权出版社提供摘要：本发明提供光刻难度度量，该光刻难度度量是以下因子的函数：能量比因子，包括衍射

专利名称：一种阵列式红外单场接收器及其生产工艺专利类型：发明专利发明人：不公告发明人申请号：CN201911239572.4申请日：20191206公开号：CN110806177A公开日：20200218专利内容由知识产权出版社提供摘要：本发明涉及一种阵列式红外单场接收器及其生产工艺，包括PCB板和安装在PCB板上的硅光晶片，所述硅光晶片设有多个光刻栅片，光刻栅片阵列式横向排列，相邻两个光刻栅片之

专利名称：彩宝石光刻纳米微雕显示体与其制造方法及首饰专利类型：发明专利发明人：胡惠申请号：CN202010929423.7申请日：20200907公开号：CN111929750A公开日：20201113专利内容由知识产权出版社提供摘要：本发明公开了一种彩宝石光刻纳米微雕显示体与其制造方法及首饰。该彩宝石光刻纳米微雕显示体包括有平凸透镜，该平凸透镜的底部平面贴设有一半导体芯片，该半导体芯片上设

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利说明书(10)申请公布号 CN 113589644 A(43)申请公布日 2021.11.02(21)申请号 CN202110799532.6(22)申请日 2021.07.15(71)申请人 中国科学院上海光学精密机械研究所    地址 201800 上海市嘉定区清河路390号(72)发明人 陈国栋 李思坤 王向朝 (74)