CN201880002643.6，光刻胶去除剂组合物，本发明涉及去除剂组合物，其包含四烷基氢氧化铵、苄型醇、包含至少一种二醇化合物的二醇组分，和烷基胺组分，其中所述烷基胺组分选自二烷基胺、具有拥有结构(I)的结构的单烷基胺和它们的组合，其中，在所述二烷基胺中，该烷基基团之一为C?1至C?4正烷基且另一个烷基基团为C?16至C?20正烷基，对于所述单烷基胺来说，m’和m独立地选自范围在4?8的整数。本发明还涉及使用这些组合物从基材去除图案化的光刻胶的方法。