CN201510273039.5，一种电容耦合型等离子体处理装置，本发明公开了一种电容耦合型等离子体处理装置，属于等离子体处理技术领域。本发明处理腔室顶部的等离子体射流放电阵列包括高压电极、阻挡介质平板和工作气流通道层。阻挡介质平板包括超材料基材层和附着在超材料基材层的金属线结构单元，在基材选定的情况下，通过改变金属线结构单元的图案、设计尺寸和/或金属线结构单元在空间中的排布获得想要的调制效果，即可改变超材料所在空间中每一单元的电磁参数ε和μ，可以设计出空间中每一点的等效电磁参数，相应地得到其等效电容，进