CN202110538151.2，一种半导体新材料制备用抛光台，本发明涉及半导体新材料领域，尤其涉及一种半导体新材料制备用抛光台。本发明要解决的技术问题是提供一种能够避免抛光液在抛光过程中飞溅，同时可检查晶片抛光完整性减少残次品的半导体新材料制备用抛光台。一种半导体新材料制备用抛光台，包括有支撑脚、集水筒、控制台、调节滑轨、承重电动推杆、防溅组件、观察组件、载盘、承重架、起铰接架、抬起杆等；且调节滑轨底面均匀开设有螺纹孔；承重电动推杆与调节滑轨滑动连接，且承重电动推杆底部开设有卡槽；调节螺栓与螺纹孔螺接。

CN202110538151.2，一种半导体新材料制备用抛光台，本发明涉及半导体新材料领域，尤其涉及一种半导体新材料制备用抛光台。本发明要解决的技术问题是提供一种能够避免抛光液在抛光过程中飞溅，同时可检查晶片抛光完整性减少残次品的半导体新材料制备用抛光台。一种半导体新材料制备用抛光台，包括有支撑脚、集水筒、控制台、调节滑轨、承重电动推杆、防溅组件、观察组件、载盘、承重架、起铰接架、抬起杆等；且调节滑轨底面均匀开设有螺纹孔；承重电动推杆与调节滑轨滑动连接，且承重电动推杆底部开设有卡槽；调节螺栓与螺纹孔螺接。